[發(fā)明專利]一種DNA表觀遺傳修飾的表面增強拉曼光譜檢測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811407848.0 | 申請日: | 2018-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN109342396B | 公開(公告)日: | 2021-04-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳萍;羅曉俊;邢應芳;蔡稱心 | 申請(專利權)人: | 南京師范大學 |
| 主分類號: | G01N21/65 | 分類號: | G01N21/65 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 樓高潮 |
| 地址: | 210023 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 dna 表觀 遺傳 修飾 表面 增強 光譜 檢測 方法 | ||
1.一種DNA表觀遺傳修飾的表面增強拉曼光譜檢測方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1)制備周期性結構的金納米孔陣列:將PMMA旋涂在玻璃基板上,然后將基板暴露于電子束,產生納米孔陣列,在甲基異丁基酮/異丙醇溶液中顯影后接著用異丙醇沖洗,然后通過熱蒸發(fā)鍍膜技術將金膜蒸發(fā)到納米孔陣列上,得到所述周期性結構的金納米孔陣列,清洗后備用;
所述金納米孔陣列為層狀結構,共有三層,底層為Si片,中間層為厚度200nm的PMMA納米陣列,上層為50nm厚的金膜;金納米孔陣列呈周期性排列的孔洞結構,孔為圓形,半徑為100nm,深度為200nm,孔與孔之間的距離為604nm;步驟2)配置DNA混合溶液:將不同表觀遺傳修飾的待測DNA分別溶解在Tris-HCl緩沖液中得到DNA溶液,取DNA溶液與TCEP溶液常溫下混合反應,得到所述DNA混合溶液;
所述待測DNA的表觀遺傳修飾方式包括5-羥甲基胞嘧啶、5-醛基胞嘧啶和5-羧基胞嘧啶;
步驟3)不同DNA表觀遺傳修飾的拉曼檢測:將步驟2)制得的DNA混合溶液滴涂在步驟1)制備的金納米孔陣列中,0.5h后取出并用氮氣吹干,用拉曼儀器在金納米孔陣列表面不同區(qū)域處采集拉曼信號進行檢測,觀察不同待測DNA表觀遺傳修飾方式拉曼光譜圖的特征差異,根據拉曼信號強度和位移的變化實現不同待測DNA表觀遺傳修飾的檢測。
2.根據權利要求1所述的一種DNA表觀遺傳修飾的表面增強拉曼光譜檢測方法,其特征在于,步驟2)所述DNA溶液與TCEP溶液的摩爾濃度比例為1:50。
3.根據權利要求1所述的一種DNA表觀遺傳修飾的表面增強拉曼光譜檢測方法,其特征在于,步驟2)所述DNA溶液的配制過程為:將不同表觀遺傳修飾的待測DNA溶解在10mmol/LpH=7.4的Tris-HCl溶液中,使其濃度為100μmol/L。
4.根據權利要求1所述的一種DNA表觀遺傳修飾的表面增強拉曼光譜檢測方法,其特征在于,步驟3)所述采集拉曼信號進行檢測的過程為:采用激發(fā)波長為785nm、功率為35mW的拉曼光譜儀,采集金納米孔陣列表面50個不同區(qū)域的拉曼光譜,獲得平均拉曼光譜。
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