[發(fā)明專利]一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811407761.3 | 申請日: | 2018-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN109338300B | 公開(公告)日: | 2019-12-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳建;劉曉鵬;楊巍;蘇霖深;徐大鵬;姚小飛;呂煜坤 | 申請(專利權(quán))人: | 西安工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司: | 61219 陜西增瑞律師事務(wù)所 | 代理人: | 張瑞琪 |
| 地址: | 710032 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化物涂層 高熵合金 過渡層 高硬度材料 過渡層表面 沉積 制備 氮氣 基片表面 磨損性能 射頻濺射 生產(chǎn)效率 硬質(zhì)刀具 對設(shè)備 高硬度 生產(chǎn)工藝 能耗 | ||
1.一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料,其特征在于,由位于基片表面的Cr過渡層、位于該Cr過渡層表面的CrN過渡層、以及位于該CrN過渡層表面的氮化物涂層組成;該氮化物涂層利用射頻濺射法由氮氣和高熵合金沉積制得,所述Cr過渡層的厚度為80-150nm,所述CrN過渡層的厚度為50-100nm,所述氮化物涂層的厚度為1.5-2.5μm;制得的鍍層材料的硬度為47.3-67GPa,其中,高熵合金的配料為鋁、硅、鈦、鉻、鈮和釩。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料,其特征在于,所述氮化物涂層的厚度為1.71-2.12μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料,其特征在于,所述基片為硅片、高速鋼或硬質(zhì)合金三者中的任何一種。
4.一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料的制備方法,其特征在于,由如下步驟組成:
以鋁、硅、鈦、鉻、鈮和釩為配料,采用真空電弧熔煉法制備得到高熵合金鑄錠,將高熵合金鑄錠依次經(jīng)過線切割、清洗、打磨和拋光后得到高熵合金靶材;
將高熵合金靶材和待處理的基片依次在無水乙醇和丙酮中利用超聲波清洗20-30min;
采用射頻電源對空白基片進(jìn)行20~30min預(yù)濺射,功率為100W;
將預(yù)濺射處理后的基片采用磁控濺射法進(jìn)行沉積鉻過渡層,Cr靶材由直流陰極控制,用直流電源沉積2-3min;
采用磁控濺射法對上述制得的基片進(jìn)行沉積CrN過渡層,Cr靶材由直流陰極控制,并在濺射時通入氮氣,用直流電源沉積3-4min;
采用射頻濺射法,濺射氣體采用Ar和N2的混合氣體,將清洗后的高熵合金和氮氣沉積到上述制得的基片上,制備出具有高熵合金氮化物涂層的高硬度材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料的制備方法,其特征在于,所述射頻濺射法中氬氣流量為26-30sccm,氮氣流量為10-14sccm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料的制備方法,其特征在于,所述真空室的爐腔真空度不低于2.0×10-3Pa,靶基距為9cm,沉積氣壓為0.65Pa,沉積溫度為25-300℃,射頻電源功率為100-200W,濺射時間為120min。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料的制備方法,其特征在于,制得的鍍層材料的硬度為47.3-70GPa,摩擦系數(shù)為0.16-0.20,臨界載荷為89N。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種高熵合金氮化物涂層的高硬度材料的制備方法,其特征在于,制得的鍍層材料的硬度為47.3-67GPa。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西安工業(yè)大學(xué),未經(jīng)西安工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811407761.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





