[發(fā)明專(zhuān)利]微流體致動(dòng)器的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811405745.0
• 申請(qǐng)日: 2018-11-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111217317B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-09-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 莫皓然;余榮侯;張正明;戴賢忠;廖文雄;黃啟峰;韓永隆;李偉銘
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 研能科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B81B3/00
• 分類(lèi)號(hào): B81B3/00;B81B1/00;B81C1/00;F04B43/04
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 聶慧荃;鄭特強(qiáng)

1.一種微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，包含以下步驟：

1)提供一基板沉積一腔體層，該基板具有一第一表面及一第二表面，是透過(guò)一氧化材料沉積于該基板的該第一表面上，以形成該腔體層；

2)該腔體層沉積一振動(dòng)層，是透過(guò)一氮化材料沉積于該腔體層上以形成該振動(dòng)層；

3)該振動(dòng)層沉積蝕刻一致動(dòng)層，是先透過(guò)一第一金屬材料沉積于該振動(dòng)層上以形成一下電極層，透過(guò)一壓電材料沉積于該下電極層上以形成一壓電致動(dòng)層，以及再透過(guò)一第二金屬材料沉積于該壓電致動(dòng)層上以形成一上電極層，最后透過(guò)蝕刻定義出該致動(dòng)層；

4)該基板蝕刻多個(gè)流道，是透過(guò)蝕刻定義出該基板的一出口流道及一入口流道；

5)該基板沉積一遮罩層蝕刻多個(gè)連接流道，是先透過(guò)該氧化材料沉積于該基板的該第二表面上以及該出口流道與該入口流道內(nèi)，以形成該遮罩層，再透過(guò)穿孔露出該基板，而該基板經(jīng)低溫深蝕刻定義出一出流連接流道、多個(gè)第一進(jìn)流連接流道及一第二進(jìn)流連接流道；

6)該腔體層蝕刻一儲(chǔ)流腔室，是在該腔體層透過(guò)蝕刻定義出該儲(chǔ)流腔室，該儲(chǔ)流腔室與該出流連接流道、該多個(gè)第一進(jìn)流連接流道及該第二進(jìn)流連接流道相連通；

7)提供一孔板層蝕刻多個(gè)流道口，該孔板層透過(guò)蝕刻定義出一出流道口以及一入流道口；

8)該孔板層滾壓干膜及光刻制出一流道層的多個(gè)通道，該孔板層先透過(guò)一干膜材料滾壓于該孔板層上，以形成該流道層，再于該流道層透過(guò)光刻制程于該流道層中定義出與該出流道口相連通的一出流通道、與該入流道口相連通的一入流通道以及多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)；以及

9)覆晶對(duì)位及熱壓接合該流道層，該流道層是透過(guò)覆晶對(duì)位及熱壓接合該流道層于該基板的該第二表面，使該孔板層的該出流道口與該基板的該出口流道相連通，該流道層的該入流通道對(duì)應(yīng)到該基板的該入口流道，以及該孔板層的該入流道口與該基板的該入口流道相連通，以構(gòu)成該微流體致動(dòng)器整體結(jié)構(gòu)。

2.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該出流連接流道與該出口流道相連通，該多個(gè)第一進(jìn)流連接流道及該第二進(jìn)流連接流道與該入口流道相連通。

3.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，步驟5更包含步驟：透過(guò)穿孔于該出口流道內(nèi)，以形成一第一流通孔，以及透過(guò)穿孔于該入口流道內(nèi)形成多個(gè)第二流通孔及一第三流通孔，以使該基板露出。

4.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該低溫深蝕刻為一深反應(yīng)性離子蝕刻制程。

5.如權(quán)利要求2所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，步驟6是透過(guò)一氫氟酸濕蝕刻制程于該腔體層內(nèi)部蝕刻出該儲(chǔ)流腔室。

6.如權(quán)利要求5所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該氫氟酸濕蝕刻透過(guò)蝕刻液由該出流連接流道、該多個(gè)第一進(jìn)流連接流道及該第二進(jìn)流連接流道流至該腔體層，釋放并移除該腔體層的部分來(lái)定義出該儲(chǔ)流腔室，借以構(gòu)成該儲(chǔ)流腔室與該出流連接流道、該多個(gè)第一進(jìn)流連接流道及該第二進(jìn)流連接流道相連通。

7.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)顯影形成于該入流通道內(nèi)。

8.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該基板為一硅基材。

9.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該氧化材料為一二氧化硅材料。

10.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該第一金屬材料為一鉑金屬材料。

11.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該第一金屬材料為一鈦金屬材料。

12.如權(quán)利要求1所述的微流體致動(dòng)器的制造方法，其特征在于，該第二金屬材料為一金金屬材料。