[發(fā)明專利]一種THz頻段InP DHBT器件在片測(cè)試結(jié)構(gòu)建模方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811405567.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110008489B | 公開(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉軍;劉杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州電子科技大學(xué);中國(guó)電子科技集團(tuán)公司信息科學(xué)研究院 |
| 主分類號(hào): | G06F30/398 | 分類號(hào): | G06F30/398;G06F30/20 |
| 代理公司: | 杭州天昊專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
| 地址: | 310000*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 thz 頻段 inp dhbt 器件 測(cè)試 結(jié)構(gòu) 建模 方法 | ||
1.一種THz頻段InP?DHBT器件在片測(cè)試結(jié)構(gòu)建模方法,其特征在于,具體包括如下步驟:
101)建立模型步驟:建立短路結(jié)構(gòu)和開路結(jié)構(gòu),其中短路結(jié)構(gòu)相對(duì)于開路結(jié)構(gòu)增加了短路連接線,短路結(jié)構(gòu)和開路結(jié)構(gòu)都包括測(cè)試地平面的寄生電感和測(cè)試地平面的寄生電阻;
102)低頻下參數(shù)獲取步驟:低頻狀況下,地平面的寄生電感、地平面的寄生電阻不起作用,金屬連接線理想接地,其等效的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)包括Cmx、Cmi、Csl、Ctl、Ctr、Csr、Rsl、Rsr、Rmx;其中Cmx和Rmx串聯(lián)支路表示信號(hào)端口之間的寄生電容和電阻;Cmi表示信號(hào)端口之間的寄生電容;Csl和Rsl串聯(lián)支路表示左側(cè)G-S-G?PAD和金屬傳輸線與地平面之間的總串聯(lián)寄生電容和電阻;Ctl表示左側(cè)G-S-G?PAD和金屬傳輸線與地平面之間的總并聯(lián)寄生電容;Csr和Rsr串聯(lián)支路表示右側(cè)G-S-G?PAD和金屬傳輸線與地平面之間的總串聯(lián)寄生電容和電阻;Ctr表示右側(cè)G-S-G?PAD和金屬傳輸線與地平面之間的總并聯(lián)寄生電容;其中Ctl=Cstl//Csdl,Ctr=Cstr//Csdr;
將等效的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換為π型網(wǎng)絡(luò),該π型網(wǎng)絡(luò)的各部分參數(shù)Y關(guān)系如下:Yl表示Rsl、Csl和Ctl網(wǎng)絡(luò),Yr表示Rsr、Csr和Ctr網(wǎng)絡(luò),Ym表示Rmx、Cmx和Cmi網(wǎng)絡(luò),可依次推導(dǎo)為Ym=-Y21=-Y12,Yl=Y(jié)11+Y12,Yr=Y(jié)22+Y12,其中Y11、Y12、Y21和Y22分別表示二端口網(wǎng)絡(luò)中的端口間的導(dǎo)納;
其中Ym還可根據(jù)等效拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)表示為如下公式:
Ym=j(luò)ωCmi+[Rmx+(jωCmx)-1]-1????公式(1)
其中,j為參數(shù);ω表示角頻率;
Ym的實(shí)部和虛部表達(dá)式如下:
[Re(Ym)]-1=Rmx+(ω2Cmx2Rmx)-1????公式(2)
Im(Ym)=[Cmi+Cmx(1+ω2Cmx2Rmx2)-1]×ω????公式(3)
其中根據(jù)實(shí)際檢測(cè)數(shù)據(jù),可得[Re(Ym)]-1關(guān)于ω-2的截距和斜率,從而依次得到Rmx和Cmx,將提取所得Rmx和Cmx代入公式(3),可得到Cmi的值;
Cmi=ω-1Im(Ym)-Cmx(1+ω2Rmx2Cmx2)-1????公式(4)
同理Yl和Yr與Ym有相同的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),提取方法同上;從而同理得到Ctl和Ctr,Ctl和Ctr參數(shù)提取后,分別由Ctl和Ctr計(jì)算Cstl、Csdl以及Cstr、Csdr的值時(shí),引入了比例因子Kl和Kr,計(jì)算公式分別為Csdl=KlCtl、Cstl=(1-Kl)Ctl以及Csdr=KrCtr、Cstr=(1-Kr)Cr,其中Kl和Kr的值在實(shí)際檢測(cè)中確定,其位常數(shù);
根據(jù)已知Signal-PAD的半徑和Signal-PAD到待測(cè)器件連接線的尺寸以及地平面的長(zhǎng)寬,得到其有效面積;由于寄生電容與金屬結(jié)構(gòu)面積成正比,寄生電阻與面積成反比,從低頻提取所得總的電阻和電容分量中,根據(jù)面積比例可分離算出Cstfl、Csfl、Rsfl和Cstgl、Csgl、Rsgl,并得到其值;根據(jù)電阻和電容的單位面積因子,得到在高頻下考慮的地平面的寄生電容和電阻Czi、Czx和Rzx的值,其中Czx和Rzx串聯(lián)支路表示地平面的高頻寄生電容和電阻,Czi表示地平面的高頻寄生電容,對(duì)于Czl和Czr采用以下方法計(jì)算Czl=2×Cmi,Czl=2×Cmi;其中Czl表示左側(cè)信號(hào)端到地平面的寄生電容,Czr表示右側(cè)信號(hào)端到地平面的寄生電容;
103)高頻下參數(shù)獲取步驟:高頻狀況下,金屬感性寄生電阻和金屬感性寄生電容,其與參數(shù)Z之間的關(guān)系如下:
ZShort′=(YShort-YOpen)-1????公式(5)
YShort表示采用Short結(jié)構(gòu)的容性寄生,YOpen表示Open結(jié)構(gòu)的容性寄生,ZShort表示Short結(jié)構(gòu)的參數(shù)Z;
高頻狀況下,金屬連接線和地平面的感性寄生電阻和感性寄生電容變得顯著,在不考慮各部分的趨膚效應(yīng)的情況下,其等效電路模型包括Za,Zb和Zm分別代表T形二端口網(wǎng)絡(luò)中左側(cè)部分、右側(cè)部分和中間部分的阻抗,其中通過參數(shù)Z可分別確定如下:
Za=[ZShort′]11-[ZShort′]12????公式(6)
Zb=[ZShort′]22-[ZShort′]12????公式(7)
Zm=[ZShort′]12=[ZShort′]21????公式(8)
Za,Zb和Zm還可進(jìn)一步表示為:
Za=(Rl+Rstubl)+jω(Ll+Lstubl)????公式(9)
Zb=(Rr+Rstubr)+jω(Lr+Lstubr)????公式(10)
Zm=(Rm+Rstubm)+jω(Lm+Lstubm)????公式(11)
Rl、Ll表示左側(cè)金屬連接線的感性寄生電阻和電感,Rr、Lr表示右側(cè)金屬連接線的感性寄生電阻和電感,Rm、Lm表示地平面的感性寄生電阻和電感;Rstubl和Lstubl串聯(lián)支路表示左側(cè)短路連接線的寄生電阻和電感,Rstubr和Lstubr串聯(lián)支路表示右側(cè)短路連接線的寄生電阻和電感,Rstubm和Lstubm串聯(lián)支路表示中間短路連接線的寄生電阻和電感;
其中Rstubl和Lstubl的提取公式如下:
Rstubl=Rshrink1×MRS×Ll/Wl????公式(13)
其中Lshrink1和Rshrink1為縮放因子,MT表示金屬的厚度,MRS表示金屬的面電阻,Ll為金屬短路線的左側(cè)長(zhǎng)度,Wl為金屬短路線的左側(cè)寬度;Rstubr、Rstubm和Lstubr、Lstubm處理公式相同;從而由公式(9)至公式(11)的實(shí)虛部,可直接得到Rl、Rr、Rm和Ll、Lr、Lm的值;
當(dāng)頻率達(dá)到一定的數(shù)值,趨膚效應(yīng)變得顯著,趨膚效應(yīng)部分參數(shù)的提取中,當(dāng)Rstubl、Rstubr、Rstubm和Lstubl、Lstubr、Lstubm以及Rl、Rr、Rm和Ll、Lr、Lm的值被確定時(shí),采用高頻下的阻抗網(wǎng)絡(luò)的參數(shù)Z減去低頻下的參數(shù)Z,可得到趨膚效應(yīng)結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的高頻等效阻抗,來進(jìn)行修正,具體關(guān)于高頻趨膚效應(yīng)部分的參數(shù)的初值過程如下:
金屬連接線的電導(dǎo)率為:
condtls=1/(MRS·MT)????公式(14)
金屬連接線在最高頻率fmax下的趨膚深度為:
金屬連接線每一部分的趨膚厚度分別為:
h1s=δmax_m/3????公式(16)
h2s=2·δmax_m/3????公式(17)
h3s=MT-2·δmax_m????公式(18)
其中h1s表示一階高頻趨膚效應(yīng)的厚度,h2s表示二階高頻趨膚效應(yīng)的厚度,h3s表示三階高頻趨膚效應(yīng)的厚度;
金屬連接線每一部分對(duì)應(yīng)的趨膚寬度分別為:
w1s=2·(WE+MT-2·h1s)????公式(19)
w2s=2·(WE+MT-4·h1s-2·h2s)????公式(20)
w3s=WE-2·δmax_m????公式(21)
其中w1s表示一階高頻趨膚效應(yīng)的寬度,w2s表示二階高頻趨膚效應(yīng)的寬度,w3s表示三階高頻趨膚效應(yīng)的寬度;
根據(jù)公式可得,金屬連接線高頻趨膚各部分的電阻值分別為:
Rli=Rshrink2·Ltotal/(condtls·his·wis)(i=1,2,3)????公式(22)
根據(jù)公式可得,金屬連接線高頻趨膚各部分的電感值分別為:
其中,Lshrink2和Rshrink2為縮放因子,MT為金屬的厚度,MRS為金屬的面電阻,MUO為磁介電常數(shù),Ltotal為左側(cè)金屬連接線總長(zhǎng)度,WE為金屬連接線的有效寬度;
從而可得Rl1,Rl2,Rl3和Ll1,Ll2,Ll3的初始值,并計(jì)算得到高頻趨膚部分對(duì)應(yīng)的總阻抗參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種THz頻段InP?DHBT器件在片測(cè)試結(jié)構(gòu)建模方法,其特征在于,開路短路模型拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的PAD的長(zhǎng)度和寬度分別為380um、195um,圓形Signal-PAD的半徑是30um,Signal-PAD和Ground-PAD之間的間距是22um。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于杭州電子科技大學(xué);中國(guó)電子科技集團(tuán)公司信息科學(xué)研究院,未經(jīng)杭州電子科技大學(xué);中國(guó)電子科技集團(tuán)公司信息科學(xué)研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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