[發明專利]基于自適應高斯拉普拉斯規則化的FMT重建方法及裝置有效
| 申請號: | 201811404727.0 | 申請日: | 2018-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN109615673B | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發明(設計)人: | 田捷;孟慧;王坤;高源 | 申請(專利權)人: | 中國科學院自動化研究所 |
| 主分類號: | G06T11/00 | 分類號: | G06T11/00;A61B5/00;A61B6/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 自適應 拉普拉斯 規則化 fmt 重建 方法 裝置 | ||
1.一種基于自適應高斯拉普拉斯規則化的激發熒光斷層成像重建方法,其中,包括如下步驟:
步驟S100:基于擴散方程和有限元模型轉換,建立激發熒光斷層成像逆問題;其中,步驟S100中包括:
步驟S110:建立擴散方程,包括:
其中,代表梯度算子,r為位置向量,Ω代表成像物體所占據的三維空間,rl為激發光源的位置,Θ為激發光源的光強值,下標x和m分別表示激發光和發射光,Φx,m(r)代表位置r處的光子密度,μax,am為光學吸收系數,μsx,sm為光學散射系數,Dx,m=1/3(μax,am+(1-g)μsx,sm)為擴散系數,g為各向異性系數,ημaf(r)為待重建的熒光區域,其中η代表量子效率,q代表光學折射系數;
步驟S120:基于擴散方程(1),進行有限元模型轉換為如下的方程:
Φ=AX
其中,Φ為采集到的成像物體表面的發射熒光信息,A代表系統矩陣,X代表生物組織內部的光源的分布信息;
步驟S130:建立激發熒光斷層成像逆問題:
其中,min E(x)為逆問題方程,Φ為采集到的成像物體表面的發射熒光信息,A代表系統矩陣,X代表生物組織內部的光源的分布信息;
步驟S200:在步驟S100建立的逆問題中,加入自適應的高斯拉普拉斯規則化約束條件;步驟S200中,在步驟S100建立的逆問題中,加入自適應的高斯拉普拉斯規則化約束條件后的逆問題如下:
其中,min E(x)′為加入自適應的高斯拉普拉斯規則化約束條件后的逆問題方程,Φ為采集到的成像物體表面的發射熒光信息,A代表系統矩陣,X代表生物組織內部的光源的分布信息,λ為規則化參數,LAG為自適應的高斯加權的拉普拉斯規則化矩陣;
所述自適應的高斯加權的拉普拉斯規則化矩陣LAG如下:
LAG=(li,j)N×N
其中,矩陣LAG的維數為N×N,li,j為矩陣LAG第i行,第j列的元素;St代表子圖像t,di,j為像素i和像素j之間的歐式距離,ρsk為光滑算子,RL和RS分別為較大的和較小的高斯核參數;Ωh為高能區,Ωm為中能區,Ωl為低能區,為子圖像中屬于高能區和低能區的任意兩個元素,為子圖像中屬于中能區的任意兩個元素;
步驟S300:利用共軛梯度方法迭代求解逆問題;
步驟S400:合成靶向性的熒光探針;
步驟S500:構建小鼠腦膠質瘤原位模型,捕獲注射探針的熒光數據,獲得熒光探針在腦膠質瘤區域的形態學分布。
2.如權利要求1所述的激發熒光斷層成像重建方法,其中,所述高能區Ωh、中能區Ωm和低能區Ωl的定義分別如下:
其中,為在第n次迭代計算中第k個像素的光強值;為在第n次迭代計算中最大的像素光強值,θh和θl為劃分高能區、中能區和低能區的高閾值和低閾值。
3.如權利要求1所述的激發熒光斷層成像重建方法,其中,步驟S300中對迭代結果中小于零的元素進行修正。
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