[發明專利]一種輻射探測用溴化鉈室溫半導體單晶的生長方法及設備有效
| 申請號: | 201811397346.4 | 申請日: | 2018-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN109750348B | 公開(公告)日: | 2023-05-05 |
| 發明(設計)人: | 韓永飛;范凱;王明軍 | 申請(專利權)人: | 北京濱松光子技術股份有限公司 |
| 主分類號: | C30B11/00 | 分類號: | C30B11/00;C30B29/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100070 北京市豐臺區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 輻射 探測 用溴化鉈 室溫 半導體 生長 方法 設備 | ||
1.一種輻射探測用溴化鉈室溫半導體晶體的生長方法,其特征在于,將Φ9.9*25mm的籽晶及1360g原料裝入到石英坩堝(30)中,然后進行抽真空封口操作,其中坩堝柱(31)的內部尺寸為Φ64*400mm,坩堝錐的角度為120°,籽晶柱(33)的內部尺寸為Φ10*25mm,石英坩堝(30)的壁厚為3mm;將裝料后的石英坩堝裝入生長設備中的底托(14)上,其中上爐膛(11)的內徑為200mm,保溫層厚度為100mm,隔熱板(12)的材質為石板纖維板,厚度為30mm,且隔熱板(12)的內孔孔徑為75mm,底托(14)的外徑為72mm,調整支撐桿(15)高度,使籽晶柱(33)頂部高于隔熱板上表面5mm,開始以200℃/h的速率升溫,直到上爐膛(11)溫度為510℃,下爐膛(13)溫度為410℃,恒溫2小時后,開始以0.05mm/h的速度開始下降支撐桿,當下降高度達到100mm時,停止下降并啟動降溫程序,以50℃/h的速度開始降溫至室溫,然后出爐并得到等徑部分為Φ64*50mm的毛坯,外觀完整通透呈淡黃色,頂部顏色輕微加深,整體無氣泡、云層、開裂,從毛坯中取樣并在室溫環境中進行能譜測試,得到能譜結果:Cs-137放射源下能量分辨率為1.87%,Co-57反射源下能量分辨率為4.62%。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京濱松光子技術股份有限公司,未經北京濱松光子技術股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811397346.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種利用廢硼酸生產硼酸鋁晶須的方法
- 下一篇:一種藍寶石單晶爐上的熱場結構





