[發明專利]多通道3D納米紋理和立體LOGO模具的制備方法

有效

• 申請號: 201811394543.0
• 申請日: 2018-11-22
• 公開（公告）號: CN109454777B
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 鄭躍勇;劉斌
• 申請（專利權）人: 寧波微迅新材料科技有限公司
• 主分類號: B29C33/38
• 分類號: B29C33/38
• 代理公司: 寧波甬致專利代理有限公司 33228
• 代理人: 李迎春

1.一種多通道3D納米紋理和立體logo模具的制備方法，具體操作步驟如下：

(1)在PET光刻材料上涂上光刻膠，然后進入不銹鋼無塵爐進行烘干備用；

(2)第一層紋理光刻處理，具體包括：

(2.1)在PET光刻材料的光刻膠所在面上放上mask圖紋版；

(2.2)將放置好的mask圖紋版的PET光刻材料放入到光刻機上，然后打開真空泵，進行抽真空；

(2.3)根據mask圖紋版的精細度、調節設置光刻時間，然后進行光刻；

(2.4)光刻完成后，取出mask圖紋版下一次備用；

(2.5)取配好的顯影液放入清洗盒中，然后把光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中進行清洗，使其圖紋在PET光刻材料上顯示出來；

(2.6)把步驟(2.5)清洗完成的PET光刻材料放入都真空環境中，打開脫水機將PET光刻材料的水分進行甩干；

(3)第二層紋理光刻處理，具體包括：

(3.1)在第一層紋理處理完成后的PET光刻材料上再涂一層光刻膠，然后進入不銹鋼無塵爐進行烘干備用；

(3.2)在步驟(3.1)烘干后的PET光刻材料涂膠的一面上再放上第二種mask圖紋版；

(3.3)將放置好第二種mask圖紋版的PET光刻材料放入到光刻機上，然后打開真空泵，進行抽真空；

(3.4)根據第二種mask圖紋版的精細度、調節設置光刻時間，然后進行光刻；

(3.5)光刻完成后，取出第二種mask圖紋版下一次備用；

(3.6)取配好的顯影液放入清洗盒中，然后把步驟(3.5)光刻完成的PET光刻材料放入清洗盒中進行清洗，使其圖紋在PET光刻材料上顯示出來；

(3.7)把步驟(3.6)清洗完成的PET光刻材料放入到真空環境中，打開脫水機將PET光刻材料的水分進行甩干，從而實現第二次紋理的處理疊加；

(4)立體logo光刻處理，具體包括：

(4.1)將步驟(3)得到的第二層紋理光刻處理的PET光刻材料上涂抹中性UV光刻膠，通過旋轉甩平方式將中性UV光刻膠平鋪在PET光刻材料上；

(4.2)將步驟(4.1)制備的PET光刻材料進行烘烤固化；

(4.3)電腦上設計好logo的紋理和高亮度，并導入至光刻直寫掩膜機，然后根據導入的logo參數通過光刻直寫掩膜機對烘烤固化后的PET光刻材料上的中性UV光刻膠進行光刻，再通過顯影、堅膜獲得具有雙層紋理和立體logo的PET光刻材料，然后再將雙層紋理和立體logo翻制到PET板材上制成多通道3D納米紋理和立體logo模具。

2.根據權利要求1所述的多通道3D納米紋理和立體logo模具的制備方法，其特征在于：所述的PET光刻材料上每加一層紋理都需要高清CCD相機進行定位。

3.根據權利要求1所述的多通道3D納米紋理和立體logo模具的制備方法，其特征在于：所述的PET光刻材料放入到光刻機上進行抽真空30-80秒。

4.根據權利要求1所述的多通道3D納米紋理和立體logo模具的制備方法，其特征在于：所述的mask圖紋版的光刻時間為30-150秒；更具體的線條寬度為0.01-0.03mm細的時間10-80秒，線條寬度為0.031-0.05mm的時間為81-150秒。

5.根據權利要求1所述的多通道3D納米紋理和立體logo模具的制備方法，其特征在于：所述PET光刻材料放入清洗盒中進行清洗設置的時間為20-300秒。

6.根據權利要求1所述的多通道3D納米紋理和立體logo模具的制備方法，其特征在于：所述的取出mask圖紋版下一次備用，為將mask圖紋版置于無光盒子內放置。

7.根據權利要求1所述的多通道3D納米紋理和立體logo模具的制備方法，其特征在于：所述的不銹鋼無塵爐進行烘干，烘干溫度為95-120℃，時間為10-30min；所述的清洗時間為20-60秒。