[發(fā)明專利]一種高工作比納米材料冷陰極電子槍在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811392955.0 | 申請日： | 2018-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN109637919A | 公開（公告）日： | 2019-04-16 |
| 發(fā)明（設計）人： | 曾葆青;姜芮芮;陳濤;劉凱;趙伯妃 | 申請（專利權(quán)）人： | 中山科立特光電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01J29/48 | 分類號： | H01J29/48;H01J29/51;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 廣東中億律師事務所 44277 | 代理人： | 杜海江 |
| 地址： | 528400 廣東省中*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 冷陰極電子槍 控制柵 陰影柵 納米材料 高工作比 半導體材料 陰極 電真空器件 電子轟擊 電子系統(tǒng) 金屬材料 快速啟動 形狀相似 陰極發(fā)射 預定距離 正前方 陽極 等電位 工作比 聚焦極 冷陰極 對柵 制備 燒毀 裝配 便利 發(fā)射 拓展 應用 | ||
1.一種高工作比納米材料冷陰極電子槍，所述冷陰極電子槍包括，聚焦極、陽極、陰極、陰影柵、控制柵，其特征在于，所述陰影柵設置于冷陰極發(fā)射面上，二者處于等電位，所述陰影柵由金屬材料或者半導體材料制備；所述控制柵置于陰影柵預定距離的正前方，控制柵形狀與陰影柵形狀相似，陰影柵與控制柵的位置進行對柵設置，控制柵與陰極發(fā)射面對向設置，所述控制柵由金屬材料制備，控制柵相對于陰極和陰影柵處于高電位時，冷陰極發(fā)射電子注，控制柵相對于陰極和陰影柵處于低電位時，冷陰極不發(fā)射電子注。
2.如權(quán)利要求1所述的高工作比納米材料冷陰極電子槍，其特征在于，所述陰影柵刻蝕于基片上，所述陰影柵的柵格內(nèi)設置有能發(fā)射電子的納米材料。
3.如權(quán)利要求1所述的高工作比納米材料冷陰極電子槍，其特征在于，所述陰影柵由金屬材料或者半導體材料制成后，封接于陰極發(fā)射面上。
4.如權(quán)利要求3所述的高工作比納米材料冷陰極電子槍，其特征在于，所述陰影柵頂部平面高于納米材料所在的平面。
5.如權(quán)利要求4所述的高工作比納米材料冷陰極電子槍，其特征在于，所述陰影柵是平面輪輻柵或者球面輪輻柵或者圓錐柱柵；所述控制柵相應的是平面輪輻柵或者球面輪輻柵或者圓錐柱柵。
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