[發(fā)明專利]用于光學器件的基板及具備其的光學器件封裝

在審

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• 申請日: 2018-11-21
• 公開（公告）號: CN109841717A
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設計）人: 安范模;樸勝浩;宋臺煥
• 申請（專利權）人: 普因特工程有限公司
• 主分類號: H01L33/48
• 分類號: H01L33/48;H01L33/54
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 汪麗紅

1.一種用于光學器件的基板，其特征在于，包括：

第一金屬部件及第二金屬部件；

垂直絕緣層，配置到所述第一金屬部件與所述第二金屬部件之間，使所述第一金屬部件與所述第二金屬部件電絕緣；以及

用于光學元件的空腔；且

形成所述用于光學元件的空腔的傾斜面的表面粗糙度R_a滿足1nm≤R_a≤100nm。

2.根據權利要求1所述的用于光學器件的基板，其特征在于，

以所述用于光學器件的基板的水平截面面積越朝下方則越小的方式形成所述用于光學器件的基板的下部。

3.一種用于光學器件的基板，其特征在于，包括：

第一金屬部件及第二金屬部件；

垂直絕緣層，配置到所述第一金屬部件與所述第二金屬部件之間，使所述第一金屬部件與所述第二金屬部件電絕緣；以及

用于光學元件的空腔；且

形成所述用于光學元件的空腔的傾斜面是絕緣層與金屬反射層積層而形成。

4.一種用于光學器件的基板，其特征在于，包括：

第一金屬部件及第二金屬部件；

垂直絕緣層，配置到所述第一金屬部件與所述第二金屬部件之間，使所述第一金屬部件與所述第二金屬部件電絕緣；以及

用于光學元件的空腔；且

形成所述用于光學元件的空腔的傾斜面的上部傾斜面的截面形狀為四邊形，下部傾斜面的截面形狀為圓形。

5.根據權利要求4所述的用于光學器件的基板，其特征在于，

形成所述用于光學元件的空腔的傾斜面的上部傾斜面及下部傾斜面的表面粗糙度R_a滿足1nm≤R_a≤100nm。

6.一種光學器件封裝，其特征在于，包括：

用于光學器件的基板，具備第一金屬部件、第二金屬部件、垂直絕緣層及用于光學元件的空腔，所述垂直絕緣層配置到所述第一金屬部件與第二金屬部件之間而使所述第一金屬部件與第二金屬部件電絕緣；

發(fā)光元件，安裝到所述用于光學元件的空腔內；以及

透光部件，以覆蓋所述用于光學元件的空腔的形態(tài)形成；且

形成所述用于光學元件的空腔的傾斜面的表面粗糙度R_a滿足1nm≤R_a≤100nm。