[發明專利]一種超憎水超自潔防污閃涂料及其制備工藝

在審

• 申請號: 201811384301.3
• 申請日: 2018-11-20
• 公開（公告）號: CN109575651A
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發明（設計）人: 戴章;戴文忠;戴超;戴玉;吳鈺娟
• 申請（專利權）人: 安徽伊法拉電氣有限公司
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;C09D187/00;C09D5/16;C08G83/00
• 代理公司: 蕪湖思誠知識產權代理有限公司 34138
• 代理人: 房文亮

1.一種超憎水超自潔防污閃涂料的制備工藝，其特征在于，包括如下步驟：

(1)制備納米二氧化硅顆粒：將TEOS溶解于乙醇中獲得無水乙醇與TEOS的混合液，將TEOS與無水乙醇的混合液倒入安裝有電動攪拌槳、滴液漏斗和冷凝器的容量為5L的燒瓶中，滴液漏斗中含有按照蒸餾水和氨水體積比為2：7配制的氨水溶液，開啟電動攪拌器，同時打開并調節滴液漏斗的開關，使氨水溶液以15mL/min的速度均勻滴入三口燒瓶，待氨水的蒸餾水溶液滴加完畢，繼續攪拌1h獲得納米二氧化硅溶膠，將納米二氧化硅溶膠在115-125℃的干燥箱中干燥22-26h，除去溶劑和副產物獲得干燥后的納米二氧化硅凝膠，將凝膠研磨并用300目的分樣篩過濾，獲得納米二氧化硅粒子；

(2)低表面能納米二氧化硅顆粒的獲得：將聚二甲基硅氧烷和二月桂酸二丁基錫加入裝有電動攪拌器的燒瓶中，并加入n-庚烷，并機械攪拌10分鐘，將納米二氧化硅加入到以上混合液中，并機械攪拌15分鐘和超聲波震動1min，使納米二氧化硅粒子均勻分散于混合液中，室溫下，將以上體系靜置于36h，使PDMS分子接枝到納米二氧化硅表面，并使n-庚烷揮發，獲得低表面能納米二氧化硅粒子；

(3)表面修飾：首先將低表面能納米二氧化硅粒子在室溫下分散于150ml的無水乙醇中，并超聲波分散3分鐘，將低表面能納米二氧化硅粒子的無水乙醇分散液注入500ml的三口燒瓶中，并將體系放置于58-62℃的水域中進行機械攪拌，機械攪拌過程中，向體系中加入氨丙基三乙氧基硅烷和4-6ml的酸性超純水，其中酸性超純水是通過在超純水中加入醋酸調至pH值為5時獲得，將反應體系在58-52℃下保持2h，并機械攪拌，使APTES分子通過-OH基團間的縮合反應接枝到低表面能納米二氧化硅粒子表面，獲得表面修飾APTES的低表面能納米二氧化硅粒子分散液。

2.根據權利要求1所述的一種超憎水超自潔防污閃涂料的制備工藝，其特征在于：所述步驟(1)中TEOS與無水乙醇和TEOS的混合液的體積比為3:35，所述氨水溶液與無水乙醇和TEOS的混合液的體積比為9:275。

3.根據權利要求2所述的一種超憎水超自潔防污閃涂料的制備工藝，其特征在于：所述步驟(2)中聚二甲基硅氧烷、二月桂酸二丁基錫以及納米二氧化硅的質量比為10:1：100，所述n-庚烷的用量為50ml。

4.根據權利要求3所述的一種超憎水超自潔防污閃涂料的制備工藝，其特征在于：所述步驟(1)中將納米二氧化硅溶膠在120℃的干燥箱中干燥24h。

5.根據權利要求4所述的一種超憎水超自潔防污閃涂料的制備工藝，其特征在于：所述步驟(3)中低表面能納米二氧化硅粒子與氨丙基三乙氧基硅烷的質量比為11:1，且低表面能納米二氧化硅粒子的用量為5-6g，所述水浴溫度為60℃。

6.一種超憎水超自潔防污閃涂料，其特征在于：采用權利要求1-5中任一項所述的工藝制得。