[發(fā)明專(zhuān)利]一種CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811383246.6 | 申請(qǐng)日： | 2018-11-20 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN109536962B | 公開(kāi)（公告）日： | 2023-06-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 茅丹;張洪濤;劉海濱;張娟娟;譚化兵;季恒星 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 無(wú)錫格菲電子薄膜科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23F1/18 | 分類(lèi)號(hào)： | C23F1/18;C23C16/02 |
| 代理公司： | 無(wú)錫華源專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32228 | 代理人： | 聶啟新 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 cvd 石墨 生長(zhǎng) 襯底 銅箔 酸性 刻蝕 | ||
1.一種CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，包括：過(guò)氧化氫、無(wú)機(jī)酸、表面活性劑和螯合摻雜劑，其中，每升酸性刻蝕液中含有的組分為：15-40g的過(guò)氧化氫，15-40g的無(wú)機(jī)酸，10-50mg的低泡表面活性劑，1-4g的螯合摻雜劑；
所述酸性刻蝕液還包括刻蝕穩(wěn)定劑，每升酸性刻蝕液中含有1-4g的刻蝕穩(wěn)定劑；
所述表面活性劑包括EO/PO嵌段聚醚、脂肪酸甲酯乙氧基化物FMEE、異辛醇磷酸酯、異辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯中一種或兩種以上復(fù)配；
所述螯合摻雜劑包括EDTA鈉鹽、二乙烯三胺五乙酸五鈉、有機(jī)磷酸鹽、咪唑及其衍生物、三氮唑及其衍生物、四氮唑及其衍生物；
所述刻蝕穩(wěn)定劑為具有螯合性質(zhì)的化合物、帶有磺酸基的有機(jī)化合物、含有極性氫原子功能團(tuán)的有機(jī)化合物或者含有不飽和鍵的有機(jī)化合物，包含二醇、二酸、有機(jī)膦酸、有機(jī)磺酸類(lèi)化合物中的一種或兩種以上的組合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述無(wú)機(jī)酸包括鹽酸、氫氟酸、硫酸或硝酸中的一種或者兩種以上復(fù)配。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述無(wú)機(jī)酸為鹽酸或硫酸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述無(wú)機(jī)酸來(lái)自質(zhì)量濃度為31wt％的鹽酸溶液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述無(wú)機(jī)酸來(lái)自質(zhì)量濃度為35wt％的硫酸溶液。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述過(guò)氧化氫來(lái)自質(zhì)量濃度為27wt％的雙氧水溶液。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，每升酸性刻蝕液中含有25-35g的無(wú)機(jī)酸；
每升酸性刻蝕液中含有25-35g的過(guò)氧化氫。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述表面活性劑為EO/PO嵌段聚醚。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述表面活性劑為巴斯夫Pl?urafac?LF系列、Lutenso?l?TO系列。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，每升酸性刻蝕液中含有20-35mg的表面活性劑。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述螯合摻雜劑選自有機(jī)磷酸鹽、咪唑及其衍生物、三氮唑及其衍生物、四氮唑及其衍生物。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述螯合摻雜劑選自伊塔瑪DEQUEST系列膦酸鹽、2-甲基咪唑、苯并三氮唑、5-苯基四氮唑。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述酸性刻蝕液還包括醇類(lèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，所述醇類(lèi)為叔丁醇；所述叔丁醇與所述螯合摻雜劑的質(zhì)量比為20:1。
15.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的CVD石墨烯生長(zhǎng)襯底銅箔酸性刻蝕液，其特征在于，每升酸性刻蝕液中含有1?.5-3?.5g的螯合摻雜劑。
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