[發明專利]用于可變數據光刻系統的油墨分離多輥清潔器

有效

• 申請號: 201811382351.8
• 申請日: 2018-11-20
• 公開（公告）號: CN109927411B
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: C-H·劉
• 申請（專利權）人: 施樂公司
• 主分類號: B41F35/00
• 分類號: B41F35/00
• 代理公司: 上海勝康律師事務所 31263
• 代理人: 樊英如

1.一種可變數據光刻系統，其包括：

具有任意可再成像的成像表面的成像構件；

用于將潤版溶液層涂覆到所述成像表面的潤版溶液子系統；

用于選擇性地去除所述潤版溶液層的部分以便在所述潤版溶液中產生潛像的圖案化子系統；

用于將油墨涂覆在所述成像表面上使得所述油墨選擇性地占據區域的涂墨子系統，在所述區域中潤版溶液通過所述圖案化子系統去除以由此形成涂墨的潛像；

用于將所述涂墨的潛像轉印到襯底的圖像轉印子系統；和，

用于從所述成像構件的所述表面去除殘余油墨的清潔子系統，所述清潔子系統包括：

清潔輥系；所述清潔輥系包括：

清潔構件，所述清潔構件在其表面上具有平滑并且薄的油墨層，并且其中所述清潔構件與所述成像構件物理接觸以去除所述殘余油墨；

其中，所述平滑并且薄的油墨層與所述殘余油墨之間的粘著力將所述殘余油墨從所述成像構件去除；

傳送構件，其與所述清潔構件物理接觸，以將在所述清潔構件的所述表面上的所述平滑并且薄的油墨層維持在預定厚度。

2.根據權利要求1所述的可變數據光刻系統，其中所述清潔輥系包括清潔構件、與所述清潔構件物理接觸的所述傳送構件，和收集構件。

3.根據權利要求2所述的可變數據光刻系統，其中所述清潔構件包括平滑輥和/或硬輥。

4.根據權利要求2所述的可變數據光刻系統，其中所述殘余油墨與所述成像構件的粘附力小于所述殘余油墨與在所述清潔構件處所述薄且平滑的油墨層的粘著力。

5.根據權利要求4所述的可變數據光刻系統，其中所述清潔構件為輥。

6.根據權利要求2所述的可變數據光刻系統，其中所述收集構件為可消耗組件并且被安置成在所述清潔輥系內能夠易于進行更換。

7.根據權利要求4所述的可變數據光刻系統，其中所述傳送構件接觸所述清潔構件以從所述清潔構件獲得這類殘余油墨的第一部分，而所述薄的油墨層留在所述清潔構件的所述表面部分上。

8.根據權利要求7所述的可變數據光刻系統，其進一步包括：至少一個用于獨立地控制所述傳送構件和/或所述收集構件的馬達。

9.根據權利要求8所述的可變數據光刻系統，其中所述收集構件使所述獲得的所述殘余油墨的第一部分積累在所述傳送構件處。

10.根據權利要求8所述的可變數據光刻系統，其進一步包括：

流變改性劑。

11.根據權利要求10所述的可變數據光刻系統，其中所述流變改性劑為被配置成在所述收集構件接觸所述傳送構件之前提高積累的殘余油墨的粘度的輻射源。

12.根據權利要求8所述的可變數據光刻系統，其中所述收集構件為清潔織物，所述清潔織物能夠平移并且被布置成直接接觸所述傳送構件以使所述獲得的所述殘余油墨的第一部分積累在所述傳送構件處。

13.一種用于從在可變數據光刻系統中的成像構件的表面去除殘余油墨的清潔子系統，其包括：

具有清潔構件的清潔輥系，所述清潔構件在其表面上具有平滑并且薄的油墨層，所述表面與所述成像構件物理接觸；

傳送構件，其與所述清潔構件物理接觸，以將在所述清潔構件的所述表面上的所述平滑并且薄的油墨層維持在預定厚度；

其中，所述平滑并且薄的油墨層與所述殘余油墨之間的粘著力將所述殘余油墨從所述成像構件去除；

其中所述殘余油墨與所述成像構件的粘附力小于所述殘余油墨與在所述清潔構件處的所述平滑并且薄的油墨層的粘著力。

14.根據權利要求13所述的清潔子系統，其中所述清潔輥系包括與所述清潔構件物理接觸的所述傳送構件，和與所述傳送構件物理接觸的收集構件。