[發(fā)明專利]多噴嘴廢熱全回收系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811376639.4
• 申請(qǐng)日: 2018-11-19
• 公開（公告）號(hào): CN109504451A
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李位位;畢大鵬;張建勝;袁蘋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)山西清潔能源研究院
• 主分類號(hào): C10J3/48
• 分類號(hào): C10J3/48;C10J3/84;C10J3/86;F28D21/00
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 趙天月

1.一種多燒嘴廢熱全回收系統(tǒng)，其特征在于，包括：

氣化爐，所述氣化爐包括：

殼體，所述殼體內(nèi)形成氣化室，所述氣化室內(nèi)設(shè)置有第一水冷壁，所述殼體的底部收縮形成氣化室出渣口；

一個(gè)主燒嘴，所述主燒嘴設(shè)置在所述殼體頂壁的中心位置，所述主燒嘴適于向所述氣化室噴射粉煤、氧氣和蒸汽或者水煤漿和氧氣；

至少兩個(gè)工藝燒嘴，所述工藝燒嘴位于所述殼體頂壁上且鄰近所述主燒嘴設(shè)置，所述工藝燒嘴適于向所述氣化室噴射煤粉、氧氣和蒸汽或者水煤漿和氧氣；

輻射廢鍋，所述輻射廢鍋與所述氣化室的底端相連，所述輻射廢鍋包括：

第二水冷壁，所述第二水冷壁設(shè)置在所述輻射廢鍋內(nèi)，所述第二水冷壁形成合成氣下行通道；

水冷屏組，所述水冷屏組包括多個(gè)水冷屏，所述多個(gè)水冷屏設(shè)在所述合成氣下行通道內(nèi)且沿周向分布，每個(gè)所述水冷屏均由所述第二水冷壁向所述合成氣下行通道中心軸方向延伸；

其中，所述第二水冷壁的下集箱和每個(gè)所述水冷屏的下集箱相連并與穿過所述輻射廢鍋下部的冷卻水進(jìn)水管相連通；

所述第二水冷壁的上集箱和每個(gè)所述水冷屏的上集箱相連并與穿過所述輻射廢鍋上部的冷卻水出水管相連通，

排渣池，所述排渣池設(shè)在所述輻射廢鍋的下方且與所述輻射廢鍋底端相連，所述排渣池的側(cè)壁設(shè)有合成氣出口，所述排渣池底部具有排渣口；

旋風(fēng)除塵器，所述旋風(fēng)除塵器內(nèi)設(shè)有第三水冷壁，并且所述旋風(fēng)除塵器具有粗合成氣進(jìn)口、除塵后合成氣出口和排灰口，所述粗合成氣進(jìn)口與所述合成氣出口相連；

對(duì)流廢鍋，所述對(duì)流廢鍋內(nèi)設(shè)有水冷管，并且所述對(duì)流廢鍋具有除塵后合成氣進(jìn)口、合成氣出口和出灰口，所述除塵后氣進(jìn)口與所述除塵后合成氣出口相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述主燒嘴內(nèi)設(shè)置有點(diǎn)火棒，具有點(diǎn)火功能。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，至少兩個(gè)所述工藝燒嘴以所述主噴嘴為中心且在周向上均勻分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述工藝燒嘴與所述主燒嘴呈10-45度夾角設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述水冷屏為8-24個(gè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的系統(tǒng)，其特征在于，每相鄰兩個(gè)所述水冷屏之間的夾角為15-45度。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述水冷屏具有6-15根水冷管。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述水冷屏與所述第二水冷壁通過鰭片相連，所述水冷屏的寬度為所述合成氣下行通道半徑的1/9-1/4。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述對(duì)流廢鍋內(nèi)設(shè)置的水冷管為蛇形水冷管。