[發(fā)明專利]一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811364858.0
• 申請日: 2018-11-16
• 公開（公告）號: CN109616574A
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 米紅玉;劉祺;劉淑杰;馬玲玲;敖寧
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

本申請公開了一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置，用以避免發(fā)光功能層的材料對薄膜封裝的影響，提高薄膜封裝的可靠性，同時簡化顯示面板制備工藝流程。本申請實(shí)施例提供的一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板具有非顯示區(qū)以及包圍所述非顯示區(qū)的顯示區(qū)，所述非顯示區(qū)包括封裝區(qū)；該方法包括在襯底基板上形成像素電路的步驟，該方法還包括：利用形成有遮擋層的第一掩膜板在所述像素電路之上形成電致發(fā)光器件的發(fā)光功能層；其中，所述第一掩膜板在與所述非顯示區(qū)對應(yīng)的區(qū)域具有透光區(qū)，所述遮擋層至少覆蓋與所述封裝區(qū)對應(yīng)的所述透光區(qū)，所述發(fā)光功能層僅位于所述顯示區(qū)；在所述電致發(fā)光器件之上形成覆蓋所述顯示區(qū)以及所述封裝區(qū)的封裝層。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術(shù)

開孔型有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管(Active-matrix organic light emittingdiode，AMOLED)產(chǎn)品開孔區(qū)為防止顯示區(qū)的有機(jī)材料被水氧腐蝕，開孔區(qū)邊緣需要進(jìn)行薄膜(Frit)封裝。如果采用常規(guī)的高精度金屬掩膜板(Fine Metal Mask，F(xiàn)MM)進(jìn)行蒸鍍，開孔區(qū)會蒸鍍上有機(jī)材料，有機(jī)材料會影響Frit封裝。現(xiàn)有技術(shù)為了避免有機(jī)材料對薄膜封裝的影響，通過在每個腔室增加一套Mask，用于阻擋有機(jī)材料蒸鍍到開孔區(qū)，同時，該Mask與原有FMM配套使用。但是，由于上述方法需要在每個蒸鍍腔室均增加一套Mask，導(dǎo)致新增加Mask數(shù)目較多，工程成本增加，并且對工藝邊緣(Margin)要求苛刻，工程操作復(fù)雜，容易增加不良風(fēng)險，影響產(chǎn)品良率。綜上，現(xiàn)有技術(shù)避免有機(jī)材料對薄膜封裝的影響的方案工藝復(fù)雜、成本高。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實(shí)施例提供了一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置，用以避免發(fā)光功能層的材料對薄膜封裝的影響，提高薄膜封裝的可靠性，同時簡化顯示面板制備工藝流程。

本申請實(shí)施例提供的一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板具有非顯示區(qū)以及包圍所述非顯示區(qū)的顯示區(qū)，所述非顯示區(qū)包括封裝區(qū)；該方法包括在襯底基板上形成像素電路的步驟，該方法還包括：

利用形成有遮擋層的第一掩膜板在所述像素電路之上形成電致發(fā)光器件的發(fā)光功能層；其中，所述第一掩膜板在與所述非顯示區(qū)對應(yīng)的區(qū)域具有透光區(qū)，所述遮擋層至少覆蓋與所述封裝區(qū)對應(yīng)的所述透光區(qū)，所述發(fā)光功能層僅位于所述顯示區(qū)；

在所述電致發(fā)光器件之上形成覆蓋所述顯示區(qū)以及所述封裝區(qū)的封裝層。

本申請實(shí)施例提供的顯示面板制備方法，由于第一掩膜板形成有至少覆蓋與所述封裝區(qū)對應(yīng)的所述透光區(qū)的遮擋層，在形成發(fā)光功能層的過程中，遮擋層可以遮擋封裝區(qū)對應(yīng)的透光區(qū)使得發(fā)光功能層的材料不會在封裝區(qū)形成，進(jìn)而可以避免發(fā)光功能層的材料影響封裝可靠性，防止顯示區(qū)中的發(fā)光功能層材料被水氧腐蝕。并且，當(dāng)需要在多個腔室進(jìn)行蒸鍍工藝，在第一掩膜板之上形成的遮擋層均可以避免發(fā)光功能層的材料蒸鍍到封裝區(qū)，即僅通過形成遮擋層便可以在完整蒸鍍流程中遮擋發(fā)光功能層的材料蒸鍍到封裝區(qū)，從而簡化顯示面板制備工藝復(fù)雜度。

可選地，該方法還包括：在所述第一掩膜板之上形成遮擋層的步驟，具體包括：

在所述第一掩膜板上涂覆遮擋層材料；

利用所述第二掩膜板對所述遮擋層材料進(jìn)行圖形化處理，形成所述遮擋層，所述第二掩膜板的透光區(qū)與所述非顯示區(qū)一一對應(yīng)。

本申請實(shí)施例提供的顯示面板制備方法，使用透光區(qū)與非顯示區(qū)一一對應(yīng)的第二掩膜板形成覆蓋與所述非顯示區(qū)對應(yīng)的所述透光區(qū)的遮擋層，使得遮擋層可以遮擋非顯示區(qū)對應(yīng)的透光區(qū)，進(jìn)而使得發(fā)光功能層的材料不會在非顯示區(qū)形成，并且利用第二掩膜板形成遮擋層的工藝簡單易于實(shí)現(xiàn)。

可選地，在所述第一掩膜板上涂覆遮擋層材料，具體包括：在所述第一掩膜板上涂覆厚度范圍為3微米～30微米的光敏材料。