[發明專利]粉塵環境模擬設備和粉塵傳輸裝置及其粉塵傳輸方法

在審

• 申請號: 201811364708.X
• 申請日: 2018-11-16
• 公開（公告）號: CN109444008A
• 公開（公告）日: 2019-03-08
• 發明（設計）人: 何旭東;是蓉珠;陸鵬
• 申請（專利權）人: 江蘇日盈電子股份有限公司
• 主分類號: G01N15/06
• 分類號: G01N15/06
• 代理公司: 寧波理文知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 李高峰;孟湘明

1.一粉塵傳輸裝置，其特征在于，包括：

一粉塵傳輸單元，其中所述粉塵傳輸單元包括一傳輸主體，其中所述傳輸主體包括一承載元件，所述承載元件能夠被驅動運動，以傳輸一粉塵；和

一勻平主體，其中所述勻平主體包括至少一勻平件，所述勻平件被保持于所述傳輸主體的所述承載元件上方，且所述勻平件能夠勻平所述粉塵。

2.根據權利要求1所述的粉塵傳輸裝置，其中所述傳輸主體具有至少一勻平槽，所述勻平件被保持于所述勻平槽的上方。

3.根據權利要求2所述的粉塵傳輸裝置，其中所述傳輸主體包括一過濾件，所述過濾件具有至少一通孔，所述過濾件被設置于所述承載元件，并在所述承載元件和所述過濾件之間形成所述勻平槽。

4.根據權利要求3所述的粉塵傳輸裝置，其中所述過濾件被可拆卸地設置于所述承載元件；或所述過濾件一體地形成于所述承載元件。

5.根據權利要求4所述的粉塵傳輸裝置，其中所述勻平槽的數量為多個，多個所述勻平槽均勻有序地形成于所述承載元件；或所述勻平槽的數量為一個，一個所述勻平槽環繞地形成于所述承載元件。

6.根據權利要求1至5所述的粉塵傳輸裝置，其中所述承載元件為一圓盤，所述承載元件能夠被驅動水平地旋轉；或所述承載元件為一帶狀，所述承載元件能夠被驅動在水平方向和垂直方向周期性地運動；或所述勻平件具有一勻平面和延伸于所述勻平面的一底面，所述勻平件的所述底面貼于所述傳輸主體或所述勻平件具有一勻平面，所述勻平件的所述勻平面能夠發生形變而貼于所述傳輸主體；或所述承載元件與所述勻平件接觸部分發生形變。

7.根據權利要求1至6任一所述的粉塵傳輸裝置，其中所述勻平件的數量為兩個，兩個所述勻平件相互間隔地保持于所述承載元件的上方。

8.根據權利要求1至7任一所述的粉塵傳輸裝置，進一步包括一負壓發生器，其中所述負壓發生器具有一第一傳輸通道和一第二傳輸通道，其中所述第二傳輸通道連通所述第一傳輸通道和外部空間，且所述第二傳輸通道位于所述承載元件和所述第一傳輸管道之間，所述第一傳輸通道內能夠形成負壓。

9.一粉塵環境模擬設備，其特征在于，包括：

根據權利要求1至8任一所述的所述粉塵傳輸裝置；和

一測試裝置，其中所述測試裝置具有一測試空間，其中所述測試空間連通于所述負壓發生器的所述第一傳輸通道。

10.一粉塵傳輸裝置的粉塵傳輸方法，其特征在于，所述傳輸方法包括如下步驟：

(a)勻平一粉塵于一承載元件；和

(b)傳輸所述粉塵于一測試空間。

11.根據權利要求10所述的傳輸方法，其中在所述步驟(a)之前，所述傳輸方法進一步包括如下步驟：

落所述粉塵于所述承載元件；和

旋轉所述承載元件，以在所述承載元件帶動所述粉塵移動的過程中，勻平所述粉塵于所述承載元件。

12.根據權利要求10或11所述的傳輸方法，其中在所述步驟(a)中，藉由所述傳輸主體的一勻平槽接收所述粉塵；或在所述步驟(a)中，藉由一勻平件阻擋所述粉塵而勻平所述粉塵；或在所述步驟(a)中，藉由一勻平件阻擋所述粉塵并使得所述粉塵進入一勻平槽而勻平所述粉塵。

13.根據權利要求12所述的傳輸方法，其中在上述方法中，進一步包括步驟：

(c.1)藉由一第一勻平件勻平一次所述粉塵；和

(c.2)藉由一第二勻平件再次勻平所述粉塵。