[發明專利]一種帶有自修復表層的人工關節的制備方法

在審

• 申請號: 201811358637.2
• 申請日: 2018-11-15
• 公開（公告）號: CN109303931A
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 鄧亞玲;孫見君;馬晨波;熊黨生
• 申請（專利權）人: 南京林業大學
• 主分類號: A61L27/06
• 分類號: A61L27/06;A61L27/34;A61L27/50
• 代理公司: 南京天翼專利代理有限責任公司 32112
• 代理人: 崔立青

1.一種帶有自修復表層的人工關節的制備方法，其特征在于，所述人工關節由自修復表層和鈦合金基底組成，所述自修復表層為聚合物電解質層；

該制備方法包括以下步驟：

(1)配置聚電解質溶液：分別配置聚陽離子電解質溶液和聚陰離子電解質溶液；

(2)將鈦合金基底進行羥基化處理，形成羥基化基底；

(3)層層自組裝聚電解質層，包括如下分步驟：

(3.1)將羥基化基底放入聚陽離子電解質溶液中浸泡，形成一層聚陽離子電解質層，取出清洗并干燥；

(3.2)然后放入到聚陰離子電解質溶液中浸泡，形成一層聚陰離子電解質層，取出清洗并干燥；

(3.3)依次重復步驟(3.1)和(3.2)，形成具有交錯疊加的N層聚陽離子電解質層與N層聚陰離子電解質層的具有多層結構的聚合物電解質層；N≥2；

完成人工關節的制備。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，

聚陽離子電解質溶液采用醫用級聚陽離子電解質配制，聚陽離子電解質為聚二烯丙基二甲基氯化銨或殼聚糖中；

聚陰離子電解質溶液采用醫用級聚陰離子電解質配制，聚陰離子電解質為聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚苯乙烯磺酸鈉或透明質酸鈉中的任一種。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述聚陽離子電解質溶液的濃度為0.1-5mg/mL。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述聚陰離子電解質溶液的濃度為0.1-5mg/mL。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述的羥基化處理為氧氣等離子體處理、紫外光輻照處理或堿溶液處理。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，

在步驟(3.1)中，羥基化基底在聚陽離子電解質溶液中的每次浸泡時間為1-30min；

在步驟(3.2)中，羥基化基底在聚陰離子電解質溶液中的每次浸泡時間為1-30min。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，羥基化基底在聚陽離子電解質溶液中的每次浸泡時間與在聚陰離子電解質溶液中的每次浸泡時間相同。

8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，聚合物電解質層的厚度為10nm～500μm。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，

聚陽離子電解質溶液采用殼聚糖制備而成，

聚陰離子電解質溶液采用聚丙烯酸制備而成；

多層聚合物電解質層包括交錯疊加的十層聚陽離子電解質層與十層聚陰離子電解質層，該多層聚合物電解質層的厚度為22-28μm。

10.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在步驟(3)中，清洗采用去離子水。