[發(fā)明專利]一種增強(qiáng)型鍍鋁膜及其生產(chǎn)工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811357123.5 | 申請日: | 2018-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN109207926B | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪云輝;謝永勝 | 申請(專利權(quán))人: | 永新股份(黃山)包裝有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/08 | 分類號: | C23C14/08;C23C14/18;C23C14/32;C23C14/02 |
| 代理公司: | 合肥和瑞知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34118 | 代理人: | 王挺 |
| 地址: | 245900 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 增強(qiáng) 鍍鋁 及其 生產(chǎn)工藝 | ||
本發(fā)明涉及一種增強(qiáng)型鍍鋁膜及其生產(chǎn)工藝。該增強(qiáng)型鍍鋁膜包括基膜,所述基膜上依次蒸鍍有氧化鋁構(gòu)成的增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層以及金屬鋁構(gòu)成的鍍鋁層,所述基膜厚度11?13微米,所述增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層厚度2?4納米,所述鍍鋁層厚度29?31納米。本發(fā)明在蒸鍍時,在鍍鋁層和基膜之間形成一層連接鍍鋁層和基膜的高附著力層即增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層。該增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層有明顯提高鍍鋁層附著力和增加阻隔性的作用。本發(fā)明與其它材質(zhì)進(jìn)行復(fù)合后因鍍鋁層牢靠無脫落,所以本發(fā)明與其它材質(zhì)之間的剝離強(qiáng)度提高、不易分層,確保了包裝結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于膜材料領(lǐng)域,具體是涉及一種增強(qiáng)型鍍鋁膜及其生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù)
包裝市場對材料的要求越來越高,尤其是阻隔膜的市場。阻隔膜通用的是采用真空鍍膜,其他的還有PVDC涂布膜、多層共擠膜,但PVDC涂布膜焚燒后產(chǎn)生二惡英破壞環(huán)境,多層共擠膜價格較高。普通的真空鍍膜的主要缺點(diǎn)及不足如下:
1、鍍鋁層牢度低,在與其他各種材質(zhì)進(jìn)行復(fù)合后(包括干式復(fù)合、擠出復(fù)合及無溶劑復(fù)合)剝離強(qiáng)度小。因鍍鋁層牢度不足造成鍍鋁層轉(zhuǎn)移脫落,嚴(yán)重時造成兩種復(fù)合基材分層,給包裝材料帶來嚴(yán)重質(zhì)量隱患。
2、阻隔性較差,透濕、透氧數(shù)據(jù)滿足不了包裝產(chǎn)品要求,同時為了一味追求阻隔性,加大鍍鋁層厚度,對鍍鋁層牢度影響更大。
3、表面處理值衰退嚴(yán)重,隨著存放時間延長,表面張力不足造成復(fù)合剝離強(qiáng)度不達(dá)標(biāo)甚至分層情況。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種增強(qiáng)型鍍鋁膜及其生產(chǎn)工藝。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的,本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案:
一種增強(qiáng)型鍍鋁膜,包括基膜,所述基膜上依次蒸鍍有氧化鋁構(gòu)成的增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層以及金屬鋁構(gòu)成的鍍鋁層,所述基膜厚度11-13微米,所述增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層厚度2-4納米,所述鍍鋁層厚度29-31納米。
優(yōu)選方案:所述基膜厚度12微米,所述增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層厚度3納米,所述鍍鋁層厚度30納米。
進(jìn)一步方案:所述基膜為PET膜、BOPP膜、CPP膜、PE膜中的任意一種。
一種所述的增強(qiáng)型鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝,包括以下步驟:
步驟1,基膜放卷;
步驟2,在真空條件下進(jìn)行蒸鍍處理:
步驟2-1,等離子處理:利用射頻等離子系統(tǒng)對所述基膜表面進(jìn)行等離子處理,所述射頻等離子系統(tǒng)的功率為2-20kW、磁場強(qiáng)度為20-80高斯、頻率為50-120HZ;使用氬氣作為等離子體氣體,所述氬氣通入量為250sccm;
步驟2-2,電離氧化沉積:將蒸發(fā)舟加熱至1400-1600℃,然后將鋁線送至蒸發(fā)舟表面,將純度為99.9%以上的氧氣通入蒸發(fā)區(qū)的上方;在蒸發(fā)區(qū)的上方設(shè)有用于電離氧氣、鋁蒸氣的微波等離子系統(tǒng),使氧化鋁沉積在塑料薄膜表面形成增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層;氧氣通入量為0.5-51/min,鋁的蒸發(fā)速率為3-10g/min;所述微波等離子系統(tǒng)的功率為1.5-5kW,微波工作頻率為2450±50MHz;之后停止向所述蒸發(fā)區(qū)通入氧氣,使鋁蒸氣沉積在增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層表面形成鍍鋁層;
步驟3,冷卻、收卷。
本發(fā)明的有益效果在于:
(1)本發(fā)明在蒸鍍時,在鍍鋁層和基膜之間形成一層連接鍍鋁層和基膜的高附著力層即增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層。該增強(qiáng)結(jié)合反應(yīng)層有明顯提高鍍鋁層附著力和增加阻隔性的作用。本發(fā)明與其它材質(zhì)進(jìn)行復(fù)合后因鍍鋁層牢靠無脫落,所以本發(fā)明與其它材質(zhì)之間的剝離強(qiáng)度提高、不易分層,確保了包裝結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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