[發明專利]一種減壓干燥設備

有效

• 申請號: 201811357047.8
• 申請日: 2018-11-15
• 公開（公告）號: CN109445251B
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 管源
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G02F1/13
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發明實施例公開了一種減壓干燥設備，該減壓干燥設備包括密封腔室、氣壓調節裝置以及位于密封腔室內的承載平臺；承載平臺用以承載表面涂布有光刻膠的基板；氣壓調節裝置設置在所述密封腔室的側邊，氣壓調節裝置包括向密封腔室通入保護氣的主氣管和支氣管，支氣管連接主氣管，主氣管在密封腔室的側邊表面上下對稱設置。本發明實施例中采用上下對稱主氣管設計，縮短支氣管供氣距離，減少氣流壓降，使得上下氣壓穩定，產品特性穩定。

技術領域

本發明涉及半導體生產設備技術領域，具體涉及一種減壓干燥設備。

背景技術

TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，簡稱薄膜晶體管液晶顯示器)的基板制作過程中，真空減壓干燥(Vacuum Dry，簡稱VCD)是一道重要的工序。真空減壓干燥是對涂布有光致抗蝕劑等膜層的涂覆液的基板進行減壓干燥處理，使得膜層固化。

完整的光刻工藝通過光刻膠涂覆制程，曝光制程，顯影制程三個主體步驟，完成基板上精密圖形的定義。在涂覆制程后的減壓干燥工序中，將涂布有光刻膠的基板置于密封腔室內，密封腔室內抽真空，使得光刻膠溶劑達到飽和蒸汽壓快速揮發，揮發汽體進而隨氣流被抽走，達到初步干燥光刻膠的目的。

現有技術的減壓干燥設備，主要是采用氣流循環的方式帶走玻璃基板表面光刻膠中的有機物。光刻膠本身為液態有一定的流動性，當減壓干燥設備供氣壓力不穩定時，氣流經過基板表面時有可能使光刻膠產生小范圍流動，從而使得玻璃基板表面的光刻膠厚度發生不均勻的狀況，影響產品特性。

發明內容

本發明實施例提供一種減壓干燥設備，縮短支氣管供氣距離，減少氣流壓降，使得上下氣壓穩定，產品特性穩定。

為解決上述問題，本發明提供一種減壓干燥設備，用于對涂布于基板表面的光刻膠進行減壓干燥處理，所述減壓干燥設備包括密封腔室、氣壓調節裝置以及位于所述密封腔室內的承載平臺；

所述承載平臺用以承載表面涂布有光刻膠的基板；所述氣壓調節裝置設置在所述密封腔室的側邊，所述氣壓調節裝置包括向所述密封腔室通入保護氣的主氣管和支氣管，所述支氣管連接所述主氣管，所述主氣管在所述密封腔室的側邊表面上下對稱設置。

進一步的，所述主氣管包括上側主氣管和下側主氣管，所述上側主氣管和所述下側主氣管在所述密封腔室的側邊表面上下對稱設置，所述密封腔室內可容納2n片基板，所述上側主氣管為所述密封腔室內上側n片基板供氣，所述下側主氣管為所述密封腔室內下側n片基板供氣，其中，n為正整數。

進一步的，所述支氣管采用雙套管設計。

進一步的，所述支氣管包括外管和內管，所述內管內形成第一空腔，所述外管和所述內管之間形成第二空腔。

進一步的，所述內管上設置有若干內管出氣口，當進氣通過所述主氣管進入所述支氣管時，填充所述第一空腔，再通過所述內管上若干內管出氣口填充所述第二空腔。

進一步的，所述外管上設置有若干外管出氣口，以向所述密封腔室通入保護氣，使得所述密封腔室內基板表面各區域的光刻膠干燥程度均勻。

進一步的，在所述支氣管上設置有進氣管，所述支氣管通過所述進氣管向所述密封腔室通入保護氣，所述進氣管上設置用于調節氣流大小的蝴蝶閥。

進一步的，所述減壓干燥設備還包括：

溫度調節模塊，設置于所述承載平臺上；所述溫度調節模塊至少包括一加熱子模塊和一冷卻子模塊；其中，所述溫度調節模塊用以對密封腔室內基板進行局部溫度調控，使得密封腔室內基板表面各區域的光刻膠干燥程度均勻。

進一步的，所述溫度調節模塊嵌設于所述承載平臺內，并且，所述溫度調節模塊的加熱子模塊靠近所述承載平臺的上表面，所述冷卻子模塊貼合于所述加熱子模塊的底部。