[發明專利]氣體處理系統、氣體處理方法及原子層沉積設備

在審

• 申請號: 201811351794.0
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN111188026A
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 紀紅;史小平;蘭云峰;秦海豐;趙雷超;張文強
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種氣體處理系統，其特征在于，包括：

第一氣路，用于向反應腔室內通入第一工藝氣體；在所述第一氣路上設置有第一開關；

第一旁路，其進氣端與所述第一氣路連接，用于排出所述第一氣路中的第一工藝氣體，使之不流入所述反應腔室；在所述第一旁路上設置有第二開關；

第二氣路，用于向反應腔室內通入第一吹掃氣體；在所述第二氣路上設置有第三開關；

第二旁路，其進氣端與所述第二氣路連接，用于排出所述第二氣路中的第一吹掃氣體，使之不流入所述反應腔室；在所述第二旁路上設置有第四開關。

2.根據權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，還包括：

回收設備，與所述第一旁路的出氣端連接，用于回收所述第一工藝氣體。

3.根據權利要求2所述的氣體處理系統，其特征在于，所述第一工藝氣體為臭氧；

所述氣體處理系統還包括臭氧產生裝置，所述臭氧產生裝置的出氣端與所述第一氣路的進氣端連接；

所述回收設備包括臭氧破解器、增壓裝置和存儲裝置，其中，

所述臭氧破解器分別與所述第一旁路的出氣端和所述增壓裝置連接，用于將所述第一旁路流出的臭氧分解為氧氣；

所述增壓裝置與所述存儲裝置連接，用于將來自所述臭氧破解器的氧氣輸送至所述存儲裝置；

所述存儲裝置與所述臭氧產生裝置的進氣端連接，用于存儲所述氧氣，并能夠向所述臭氧產生裝置提供所述氧氣。

4.根據權利要求3所述的氣體處理系統，其特征在于，所述氣體處理系統還包括：

第三氣路，用于向所述存儲裝置提供氧氣；在所述第三氣路上設置有第一流量調節閥；

第四氣路，用于向所述存儲裝置提供氮氣；在所述第四氣路上設置有第二流量調節閥。

5.根據權利要求3所述的氣體處理系統，其特征在于，所述回收設備還包括壓力檢測裝置，用于檢測所述存儲裝置中的氣體壓力。

6.根據權利要求1-5任意一項所述的氣體處理系統，其特征在于，所述氣體處理系統還包括：

排氣裝置，分別與所述反應腔室和所述第二旁路的出氣端連接，用于排出所述反應腔室中的氣體和所述第二旁路中的第一吹掃氣體。

7.根據權利要求6所述的氣體處理系統，其特征在于，所述排氣裝置包括排氣氣路，所述排氣氣路的兩端分別與所述反應腔室和尾氣處理系統連接；并且，在所述排氣氣路上設置有抽氣裝置，用于抽出所述反應腔室內的氣體；

在所述排氣氣路上，且位于所述抽氣裝置與所述尾氣處理系統之間設置有單向閥，并且，所述第二旁路的出氣端位于所述單向閥與所述尾氣處理系統之間。

8.根據權利要求1-5任意一項所述的氣體處理系統，其特征在于，所述氣體處理系統還包括：

第五氣路，用于向所述反應腔室內通入稀釋氣體；在所述第五氣路上設置有第三流量調節閥；

第六氣路，其出氣端與所述第五氣路連接，用于向所述第五氣路輸送第二吹掃氣體；在所述第六氣路上設置有第五開關和第四流量調節閥；

源瓶，用于存儲第二工藝氣體；

第三旁路，其進氣端與所述第六氣路連接，且位于所述第五開關的上游；所述第三旁路的出氣端與所述源瓶的進氣端連接；在所述第三旁路上設置有第六開關；

第四旁路，其出氣端與所述第六氣路連接，且位于所述第五開關的下游；所述第四旁路的進氣端與所述源瓶的出氣端連接；在所述第四旁路上設置有第七開關。