[發明專利]表面保護膜

有效

• 申請號: 201811351496.1
• 申請日: 2017-02-22
• 公開（公告）號: CN109609043B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 設樂浩司;徐創矢;佐佐木翔悟
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: C09J7/25
• 分類號: C09J7/25;C09J7/20;C09J7/30;C09J175/04;C09J11/06;C09J11/08
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王利波

本發明提供一種具備超輕剝離性、且被粘附物表面的污染性低的表面保護膜。本發明的表面保護膜具有粘合劑層，其中，將厚度25μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜貼合于該粘合劑層，在23℃下30分鐘后，以剝離角度180度、剝離速度6000mm/分剝離該聚對苯二甲酸乙二醇酯膜時，剝離力為0.08N/25mm以下。

本申請是申請日為2017年2月22日、申請號為201780015170.9、發明名稱為“表面保護膜”的申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及表面保護膜。

背景技術

在光學構件、電子構件的制造工序中，為了防止在加工、組裝、檢查、運送等時對表面造成損傷，通常會在露出面粘貼表面保護膜。在不需要進行表面保護時，將這樣的表面保護膜從光學構件、電子構件上剝離(專利文獻1)。

對于粘貼有這樣的表面保護膜的光學構件、電子構件而言，在如上所述想要剝離表面保護膜時，能夠僅在該表面保護膜與光學構件、電子構件的界面處順暢地剝離是重要的。

然而，在光學構件、電子構件具備薄玻璃、等易破損的構件的情況下，如果想要剝離所粘貼的表面保護膜，則即使在使用了現有的具有輕剝離性的表面保護膜時，有時也因剝離力而導致該易破損構件發生破損。

因此，要求與現有的具有輕剝離性的表面保護膜相比進一步具有輕剝離性、即具有超輕剝離性的表面保護膜。

這里，為了減輕剝離力，在使表面保護膜的粘合劑層中大量含有現有的剝離劑時，有時可表現出一定程度的超輕剝離性。然而，這樣的方法存在如下問題：在剝離表面保護膜后，被粘附物表面受剝離劑污染的程度大，且在想要再次粘貼表面保護膜時，因被粘附物表面受污染而導致表面保護膜變得難以粘貼。

另外，在光學構件、電子構件的制造工序中，為了防止表面在加工、組裝、檢查、運送等時受損而粘貼于露出面的表面保護膜通常以粘貼的狀態進行保管。在該情況下，現有的表面保護膜在粘貼的狀態下保管時，存在粘合力經時上升而變得重剝離化的問題。

如上所述，在光學構件、電子構件的制造工序中，對于為了防止表面在加工、組裝、檢查、運送等時受損而粘貼于露出面的表面保護膜而言，存在若干應改進的方面，即，存在賦予超輕剝離性、可降低被粘附物表面的污染性、可抑制經時性的重剝離化等應改進的方面。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2016-17109號公報

發明內容

發明所要解決的問題

本發明的課題在于提供一種被賦予了超輕剝離性的表面保護膜，提供一種可降低被粘附物表面的污染性的表面保護膜，提供一種可抑制經時性的重剝離化的表面保護膜。

解決問題的方法

本發明的表面保護膜具有粘合劑層，其中，

將厚度25μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜貼合于該粘合劑層，在23℃下30分鐘后，以剝離角度180度、剝離速度6000mm/分剝離該聚對苯二甲酸乙二醇酯膜時，剝離力為0.08N/25mm以下。

在一個實施方式中，將厚度25μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜貼合于所述粘合劑層，在23℃下30分鐘后，以剝離角度180度、剝離速度300mm/分剝離該聚對苯二甲酸乙二醇酯膜時，剝離力為0.02N/25mm以下。

本發明的表面保護膜具有粘合劑層，其中，

將厚度25μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜貼合于該粘合劑層，在80℃下7天后，以剝離角度180度、剝離速度6000mm/分剝離該聚對苯二甲酸乙二醇酯膜時，剝離力為0.35N/25mm以下。