[發明專利]一種聚3;4-乙基二氧吡咯納米線的合成方法

在審

• 申請號: 201811350710.1
• 申請日: 2018-11-08
• 公開（公告）號: CN109402768A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 汪元元
• 申請（專利權）人: 上海萃勵電子科技有限公司
• 主分類號: D01F6/94
• 分類號: D01F6/94;C08G73/06;B82Y40/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供一種聚3，4?乙基二氧吡咯納米線的合成方法，其特征在于，包括以下步驟：將3，4?乙基二氧吡咯和模板劑加入乙腈中，攪拌溶解，將三氯化鐵溶于另一份乙腈溶液中，再以兩秒每滴的速度加入第一份乙腈溶液中，持續攪拌反應8～12小時后得到沉淀，過濾后經洗滌干燥得到聚3，4?乙基二氧吡咯納米線。本發明工藝簡單，易于大批量合成，合成聚3，4?乙基二氧吡咯納米線微觀形貌可通過模板劑控制。所得產物可應用于可應用于金屬防腐、微波吸收涂層、超級電容器、電催化等領域。

技術領域

本發明屬于材料化學技術領域，涉及一種聚3，4-乙基二氧吡咯納米線的合成方法。

背景技術

聚3，4-乙基二氧噻吩(PEDOT)具有分子結構簡單、能隙小、電導率高等特點，被廣泛用作有機薄膜太陽能電池材料、OLED材料、電致變色材料、透明電極材料等領域的研究，是目前商業化穩定的有機電子材料。聚3，4-乙基二氧吡咯具有與PEDOT相似的結構，由含N的吡咯雜環替代噻吩環。一維結構的聚3，4-乙基二氧噻吩已有大量報道，具有許多獨特性質，可用于柔性導電、鋰離子電池、超級電容、電致變色等多種領域。聚3，4-乙基二氧吡咯納米線的合成與性能目前鮮有報道。

發明內容

本發明的目的在于提供一種聚3，4-乙基二氧吡咯納米線的合成方法，其特征在于，包括以下步驟：將3，4-乙基二氧吡咯和模板劑加入乙腈中，攪拌溶解，將三氯化鐵溶于另一份乙腈溶液中，再以兩秒每滴的速度加入第一份乙腈溶液中，持續攪拌反應8～12小時后得到沉淀，過濾后經洗滌干燥得到聚3，4-乙基二氧吡咯納米線。

所述3，4-乙基二氧吡咯在混合溶液中濃度1mmol/L～2mmol/L。

所述模板劑包括十二烷基硫酸鈉、十二烷基硫酸鉀、十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基苯磺酸鉀中的一種，混合溶液中濃度0.01mol/L～0.02mol/L。

所述三氯化鐵的加入量為3，4-乙基二氧吡咯摩爾量的2～5倍。

所述的洗滌是用去離子水和乙醇交替洗滌，每次洗滌后采用離心機沉淀或抽濾設備進行過濾，過濾產物重新在去離子水或乙醇中分散，反復過濾直到濾液pH值為7，最后一次用乙醇洗滌以方便干燥；所述的干燥是在50～80℃真空烘箱中烘干，真空干燥條件為真空度＜133Pa。

本發明工藝簡單，易于大批量合成，合成聚3，4-乙基二氧吡咯納米線微觀形貌可通過模板劑控制。所得產物可應用于可應用于金屬防腐、微波吸收涂層、超級電容器、電催化等領域。

本發明的內容和特點已揭示如上，然而前面敘述的本發明僅僅簡要地或只涉及本發明的特定部分，本發明的特征可能比在此公開的內容涉及的更多。因此，本發明的保護范圍應不限于實施例所揭示的內容，而應該包括在不同部分中所體現的所有內容的組合，以及各種不背離本發明的替換和修飾，并為本發明的權利要求書所涵蓋。

附圖說明

圖1為采用本發明(實施例1)合成聚3，4-乙基二氧吡咯納米線的掃描電鏡照片。

具體實施方式

實施例1

將2mmol/L的3，4-乙基二氧吡咯和0.02mol/L十二烷基硫酸鈉加入50mL乙腈中，攪拌溶解，將10mmol/L三氯化鐵溶于另一份50mL乙腈溶液中，再以兩秒每滴的速度加入第一份乙腈溶液中，持續攪拌反應8小時后得到沉淀，過濾后經洗滌干燥得到如圖1所示的聚3，4-乙基二氧吡咯納米線。

實施例2

將4mmol/L的3，4-乙基二氧吡咯和0.02mol/L十二烷基苯磺酸鈉加入50mL乙腈中，攪拌溶解，將8mmol/L三氯化鐵溶于另一份50mL乙腈溶液中，再以兩秒每滴的速度加入第一份乙腈溶液中，持續攪拌反應12小時后得到沉淀，過濾后經洗滌干燥得到聚3，4-乙基二氧吡咯納米線。