[發(fā)明專利]一種基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜方法及其裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811348200.0
• 申請日: 2018-11-13
• 公開（公告）號: CN109536895B
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 康翠萍
• 申請（專利權(quán)）人: 寶雞文理學(xué)院
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56;C23C14/54;B82Y40/00
• 代理公司: 西安銘澤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61223
• 代理人: 李振瑞

本發(fā)明公開了納米材料鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域的一種基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜方法包括添加溶液、基片裝夾、蒸發(fā)鍍膜、預(yù)抽真空和循環(huán)操作，該基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜裝置，包括第一真空室和第二真空室，所述第二真空室焊接于第一真空室的右側(cè)，所述第一真空室的內(nèi)腔右側(cè)頂部和第二真空室的內(nèi)腔左側(cè)頂部均安裝有電動推桿，該基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜方法及其裝置，通過設(shè)置有兩個真空室，在對其中一個真空室內(nèi)的基片進(jìn)行成膜時，對另一個真空室進(jìn)行基片裝夾和預(yù)抽真空的操作，減少了基片成膜時抽真空的等待時間，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)作業(yè)，提高了成膜效率，此外還對蒸發(fā)鍍膜的流量進(jìn)行精確控制，其基片上納米材料的成膜更加均勻。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及納米材料鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜方法及其裝置。

背景技術(shù)

納米材料又稱為超微顆粒材料，由納米粒子(nano particle)組成。納米粒子也叫超微顆粒，一般是指尺寸在1～100nm間的粒子，是處在原子簇和宏觀物體交界的過渡區(qū)域，從通常的關(guān)于微觀和宏觀的觀點(diǎn)看，這樣的系統(tǒng)既非典型的微觀系統(tǒng)亦非典型的宏觀系統(tǒng)，是一種典型的介觀系統(tǒng)，它具有表面效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng)。目前使用納米材料在基片上成膜時，使用現(xiàn)有裝置其等待時間較長，帶成膜完畢后還需要抽真空，成膜過程中耗費(fèi)時間較多，不能實(shí)現(xiàn)連續(xù)的作業(yè)，其工作效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜方法及其裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的目前使用納米材料在基片上成膜時，使用現(xiàn)有裝置其等待時間較長，帶成膜完畢后還需要抽真空，成膜過程中耗費(fèi)時間較多，不能實(shí)現(xiàn)連續(xù)的作業(yè)，其工作效率較低的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜裝置，包括第一真空室和第二真空室，所述第二真空室焊接于第一真空室的右側(cè)，所述第一真空室的內(nèi)腔右側(cè)頂部和第二真空室的內(nèi)腔左側(cè)頂部均安裝有電動推桿，所述電動推桿的外側(cè)推桿連接有夾具，所述第一真空室的左側(cè)頂部和第二真空室的右側(cè)頂部均安裝有電動蝶閥，所述第一真空室的左側(cè)底部和第二真空室的右側(cè)底部均焊接有支撐架，所述第一真空室的底部左側(cè)和第二真空室的底部右側(cè)均通過螺栓安裝有真空泵，所述第一真空室和第二真空室的底部均連接有氣管，且氣管的另一端與真空泵連接，兩個所述支撐架之間焊接有橫架，所述橫架的頂部安裝有蒸發(fā)裝置，所述蒸發(fā)裝置的頂部左右兩側(cè)均連接有金屬管，所述金屬管的中間位置安裝有定量控制閥，兩個所述金屬管的頂端分別與第一真空室和第二真空室連接。

優(yōu)選的，所述蒸發(fā)裝置包括殼體，所述殼體的內(nèi)腔設(shè)有隔板，所述隔板的底部安裝有電熱板，所述隔板的頂部連接有加料管，所述加料管的頂部螺紋連接有蓋板。

優(yōu)選的，所述金屬管的內(nèi)腔壁設(shè)有特氟龍涂層。

該基片強(qiáng)適應(yīng)性納米材料均勻成膜方法，包括以下步驟：

S1：添加溶液：根據(jù)需求配置適量納米材料溶液，打開加料管上的蓋板，將所得溶液加入蒸發(fā)裝置的內(nèi)腔。

S2：基片裝夾：接通外部電源，開啟第一真空室內(nèi)的電動蝶閥和電動推桿，通過電動推桿推桿伸出推動夾具運(yùn)動至第一真空室的外側(cè)，在夾具上裝夾好基片后，再次開啟電動推桿使其推桿復(fù)位，復(fù)位后關(guān)閉電動蝶閥并開啟第一真空室底部的真空泵將第一真空室抽真空。

S3：蒸發(fā)鍍膜：開啟電熱板對蒸發(fā)裝置內(nèi)腔的溶液進(jìn)行加熱蒸發(fā)，在定量控制閥上設(shè)置好劑量，并打開定量控制閥，通入蒸發(fā)后的納米材料蒸汽，當(dāng)納米材料蒸汽接觸基片后可沾粘在基片上形成一層鍍膜。

S4：預(yù)抽真空：將基片裝夾在第二真空室內(nèi)，開啟第二真空室底部右側(cè)的真空泵將第二真空室進(jìn)行預(yù)抽真空。

S5：循環(huán)操作：待第一真空室內(nèi)的基片鍍膜完畢后，卸下基片，按照所述步驟S3操作對第二真空室內(nèi)的基片進(jìn)行鍍膜，再次向第一真空室內(nèi)裝夾基片，并對其進(jìn)行預(yù)抽真空，待第二真空室內(nèi)基片鍍膜完畢后，再次對第一真空室內(nèi)的基片進(jìn)行鍍膜。