[發(fā)明專利]隨機(jī)介質(zhì)搭建、電磁散射場仿真方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811345455.1 | 申請日: | 2018-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN109376458B | 公開(公告)日: | 2023-01-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李糧生;殷紅成 | 申請(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號: | G06F30/20 | 分類號: | G06F30/20 |
| 代理公司: | 北京格允知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 周嬌嬌 |
| 地址: | 100854*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 隨機(jī) 介質(zhì) 搭建 電磁 散射 仿真 方法 裝置 | ||
1.一種電磁散射場仿真方法,其特征在于,所述方法包括:
步驟1、構(gòu)建由指定個數(shù)的顆粒組成的顆粒組;
步驟2、確定所述顆粒組與所有已保存的隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型之間的相似度;所述已保存的隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型為已經(jīng)選取作為隨機(jī)介質(zhì)構(gòu)型的顆粒組;
步驟3、在所述顆粒組與所有已保存的隨機(jī)介質(zhì)構(gòu)型之間的相似度都小于第一閾值的情況下,將所述顆粒組作為隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型并保存;
根據(jù)徑向分布函數(shù)統(tǒng)計所述隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型中的顆粒分布情況;
根據(jù)所述隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型中的顆粒分布情況以及設(shè)置的電磁散射場仿真參數(shù),進(jìn)行電磁散射仿真計算,以得到散射場波束的統(tǒng)計分布信息;所述電磁散射場仿真參數(shù)包括:顆粒的介電常數(shù)、入射電磁波波長。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
在所述顆粒組與任一已保存的隨機(jī)介質(zhì)構(gòu)型之間的相似度大于或等于第一閾值的情況下,再次執(zhí)行所述構(gòu)建由指定個數(shù)的顆粒組成的顆粒組的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
迭代執(zhí)行所述步驟1至步驟3,直至所述隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型總數(shù)達(dá)到第二閾值。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述顆粒為圓形顆粒,所述構(gòu)建由指定個數(shù)的顆粒組成的顆粒組的步驟包括:
基于隨機(jī)函數(shù)在指定空間內(nèi)生成呈均勻分布的多個顆粒的位置坐標(biāo);然后,根據(jù)預(yù)設(shè)約束條件從所述多個顆粒中抽取指定個數(shù)的顆粒,以得到由所述指定個數(shù)的顆粒組成的顆粒組;所述預(yù)設(shè)約束條件包括:顆粒之間的距離大于顆粒直徑,且顆粒到所述指定空間邊界的距離大于顆粒半徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述顆粒為圓形顆粒,所述確定所述顆粒組與所有已保存的隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型之間的相似度的步驟包括:
在指定空間內(nèi),以所述顆粒組中的顆粒位置坐標(biāo)為圓心、以顆粒半徑為半徑繪制一組圓,以一個已保存的隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型中的顆粒位置坐標(biāo)為圓心、以顆粒半徑為半徑繪制另一組圓,將這兩組圓的重合面積與一組圓面積的比值作為所述顆粒組與該已保存的隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型之間的相似度。
6.一種電磁散射場仿真裝置,其特征在于,所述裝置包括:
構(gòu)建模塊,用于構(gòu)建由指定個數(shù)的顆粒組成的顆粒組;
確定模塊,用于確定所述顆粒組與所有已保存的隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型之間的相似度;所述已保存的隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型為已經(jīng)選取作為隨機(jī)介質(zhì)構(gòu)型的顆粒組;
選取模塊,用于在所述顆粒組與所有已保存的隨機(jī)介質(zhì)構(gòu)型之間的相似度都小于第一閾值的情況下,將所述顆粒組作為隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型并保存;
統(tǒng)計模塊,用于根據(jù)徑向分布函數(shù)統(tǒng)計所述隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型中的顆粒分布情況;
仿真模塊,用于根據(jù)所述隨機(jī)介質(zhì)的構(gòu)型中的顆粒分布情況以及設(shè)置的電磁散射場仿真參數(shù),進(jìn)行電磁散射仿真計算,以得到散射場波束的統(tǒng)計分布信息;所述電磁散射場仿真參數(shù)包括:顆粒的介電常數(shù)、入射電磁波波長。
7.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括:
一個或多個處理器;
存儲裝置,用于存儲一個或多個程序,
當(dāng)所述一個或多個程序被所述一個或多個處理器執(zhí)行,使得所述一個或多個處理器實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至5中任一所述的方法。
8.一種計算機(jī)可讀介質(zhì),其上存儲有計算機(jī)程序,其特征在于,所述程序被處理器執(zhí)行時實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至5中任一所述的方法。
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