[發(fā)明專利]一種顯示組件及顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811338901.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111176025A | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊春輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 惠科股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1339 | 分類號(hào): | G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 高星 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道水田村民*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 組件 顯示裝置 | ||
本發(fā)明適用于顯示技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種顯示組件及顯示裝置,包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板;第一基板包括第一基層;主間隔物及輔隔墊物,第二基板包括第二基層,保護(hù)層,半導(dǎo)體墊塊和透明導(dǎo)電墊塊,設(shè)置于保護(hù)層內(nèi)部和表面,與主間隔物對(duì)應(yīng);凹槽開設(shè)于保護(hù)層,與輔間隔物對(duì)應(yīng)。本發(fā)明在第二基板的第二基層上設(shè)置半導(dǎo)體墊塊和透明導(dǎo)電墊塊,在第二基板的保護(hù)層上開設(shè)凹槽,輔間隔物與凹槽相對(duì)且可伸入凹槽,使得面板的段差得以增大,增大量為半導(dǎo)體墊塊和透明導(dǎo)電墊塊的厚度與凹槽的深度之和,進(jìn)而有效的增大了段差,增大液晶冗余,提升面板品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種顯示組件及顯示裝置。
背景技術(shù)
液晶顯示組件主要由彩色濾光片(Color Filter,CF)基板和薄膜晶體管(ThinFilm Transistor,TFT)陣列基板間隔一定距離對(duì)組且密封周邊形成,這種由兩塊基板對(duì)盒形成的結(jié)構(gòu)也稱為液晶盒,盒內(nèi)填充液晶材料。其中,CF基板是實(shí)現(xiàn)液晶顯示器的色彩顯示的關(guān)鍵材料,同時(shí)還影響顯示亮度、對(duì)比度等光學(xué)特性。CF基板主要包括玻璃基板(GlassSubstrate,GS)、黑矩陣(Black Matrix,BM)、色阻(Color Resist,CR)、ITO(Indium TinOxides,銦錫氧化物)和柱狀間隔物(Post Spacer,PS)。PS用于維持TFT基板與CF基板之間的間隙穩(wěn)定。
液晶盒內(nèi)一般有兩種PS,一種是正常情況下維持液晶盒間隙的主PS(Main-PS,MPS),另外一種是在液晶盒厚變小時(shí)起到支撐作用的輔PS(Sub-PS,SPS)。在非正常情況下,例如當(dāng)溫度過高時(shí),液晶體積膨脹,MPS支撐力減小,液晶膨脹后會(huì)局部聚集在一起出現(xiàn)重力Mura(亮度不均、斑點(diǎn)),定義出現(xiàn)重力Mura的邊界液晶量為L(zhǎng)1;當(dāng)溫度過低時(shí),液晶體積縮小,盒厚變小,SPS產(chǎn)生支撐力,阻止液晶盒厚的進(jìn)一步下降,此時(shí)局部空間仍有可能因無液晶而出現(xiàn)真空氣泡,定義出現(xiàn)真空氣泡的邊界液晶量為L(zhǎng)2。在L1與L2之間的液晶量,稱為L(zhǎng)C margin(液晶冗余),在此范圍內(nèi)不會(huì)出現(xiàn)重力mura與真空氣泡,LC margin在合理的范圍內(nèi)要求越大越好。
MPS和SPS隨著液晶盒間隙的減小而先后接觸TFT基板,產(chǎn)生PS段差,當(dāng)段差過小時(shí),無法保證液晶冷縮后仍能夠充滿液晶盒,進(jìn)而易產(chǎn)生真空氣泡,使得LC margin過小,合適的段差是保證足夠大的LC margin的必要條件,也是提升液晶顯示組件品質(zhì)的重要因素。因此,需要提供新的增大段差的方案,以增大LC margin。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種顯示組件,旨在解決顯示組件的LC margin較小的技術(shù)問題。
本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種顯示組件,包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板;
所述第一基板包括:
第一基層;
主間隔物和輔間隔物,間隔設(shè)置于所述第一基層上;
所述第二基板包括:
第二基層,與所述第一基層相對(duì)間隔設(shè)置;
保護(hù)層,設(shè)置于所述第二基層靠近所述第一基層的一側(cè),所述保護(hù)層開設(shè)有可供輔間隔物伸入的凹槽;以及
半導(dǎo)體墊塊和透明導(dǎo)電墊塊,所述半導(dǎo)體墊塊設(shè)置于所述保護(hù)層內(nèi)部,所述透明導(dǎo)電墊塊設(shè)置于所述保護(hù)層靠近所述第一基層的一側(cè),所述半導(dǎo)體墊塊和透明導(dǎo)電墊塊與所述主間隔物對(duì)應(yīng)。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述保護(hù)層包括層疊設(shè)置于所述第二基層上的第一緩沖層和第二緩沖層;
所述半導(dǎo)體墊塊設(shè)置于所述第一緩沖層和第二緩沖層之間;
所述透明導(dǎo)電墊塊設(shè)置于所述第二緩沖層靠近所述第一基層的一側(cè);所述第二緩沖層對(duì)應(yīng)所述半導(dǎo)體墊塊的部位形成凸起,所述透明導(dǎo)電墊塊設(shè)置于所述凸起上并與所述主間隔物抵接。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





