[發(fā)明專利]一種破壁機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811336436.2
• 申請(qǐng)日: 2018-11-09
• 公開（公告）號(hào): CN109288413A
• 公開（公告）日: 2019-02-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐梓健;紀(jì)曉旭;王琳;劉冬麗;王美曉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 珠海格力電器股份有限公司
• 主分類號(hào): A47J43/07
• 分類號(hào): A47J43/07;A47J43/046
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種破壁機(jī)，其特征在于，包括攪拌杯身，所述攪拌杯身的外側(cè)表面形成有用于向所述攪拌杯身外側(cè)方向輻射熱量的輻射制冷膜層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的破壁機(jī)，其特征在于，且所述輻射制冷膜層的輻射波長(zhǎng)包括0.3μm-2.5μm、3.2μm-4.8μm以及7.0μm-13.0μm三種范圍中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述輻射制冷膜層包括形成于攪拌杯身外側(cè)的金屬反射層、形成于所述金屬反射層外側(cè)的輻射層和形成于所述輻射層外側(cè)的保護(hù)層。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述輻射層包括基材和分散于所述基材內(nèi)的電介質(zhì)顆粒，所述電介質(zhì)顆粒的直徑為1μm-30μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述電介質(zhì)顆粒占所述輻射層的體積比為1％-25％。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述電介質(zhì)顆粒由二氧化硅、碳化硅、氟化鈣、硫酸鈣或硫酸鋇制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述基材的厚度為10μm-3mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述基材由基體樹脂聚甲基戊烯、聚烯烴、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯或聚四氟乙烯制成。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述金屬反射層的厚度為30nm-1000nm。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述保護(hù)層的厚度為8.5μm-12μm。

11.根據(jù)權(quán)利要求3-10任一項(xiàng)所述的破壁機(jī)，其特征在于，所述金屬反射層通過膠黏劑與所述攪拌杯身的外側(cè)壁粘接。