[發明專利]喉管開度現場控制平臺

有效

• 申請號: 201811333867.3
• 申請日: 2018-11-09
• 公開（公告）號: CN109725561B
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發明（設計）人: 王信福;劉曉東
• 申請（專利權）人: 浙江思密達智能裝備有限公司
• 主分類號: G05B19/042
• 分類號: G05B19/042
• 代理公司: 紹興市寅越專利代理事務所(普通合伙) 33285
• 代理人: 焦亞如

1.一種喉管開度現場控制平臺，其特征在于，所述平臺包括：

臥式吸塵器架構，包括圓刷頭、塑料外殼、電動刷頭、喉管、扁吸嘴、掃塵刷和電動機；

其中，在所述臥式吸塵器架構中，所述喉管用于連接清潔用的圓刷頭、電動刷頭或掃塵刷，所述電動機為臥式吸塵器架構的吸塵提供動力；

在所述臥式吸塵器架構中，所述扁吸嘴為一硬吸嘴，用于清潔墻邊、輻射式暖氣片、房間角落或淺窄區域；

CMOS傳感設備，設置在臥式吸塵器架構的塑料外殼上，用于對臥式吸塵器架構的四周景象進行光電數據轉換，以獲得并輸出時間軸上連續的多幀外殼四周圖像；

信號濾波設備，與所述CMOS傳感設備連接，用于接收所述多幀外殼四周圖像，對當前外殼四周圖像進行信號濾波處理，以獲得對應的信號濾波圖像；

數據切分設備，與所述信號濾波設備連接，用于對所述信號濾波圖像中各個目標的各個景深進行測量，以獲得景深最淺的三個目標，并從所述信號濾波圖像中切分出三個目標分別對應的三個目標圖案；

圖案測量設備，與所述數據切分設備連接，用于接收所述三個目標圖案，獲取每一個目標圖案在所述信號濾波圖像中占據的像素點的數量，對所述三個目標圖案在所述信號濾波圖像中占據的像素點的數量求均值以獲得對應的像素點均值；

分塊解析設備，與所述圖像測量設備連接，用于基于所述像素點均值確定與所述像素點均值最接近的圖像分塊，所述最接近的圖像分塊為一正方形且其像素點的總數與所述像素點均值最接近；

冗余度分析設備，分別與所述數據切分設備和所述分塊解析設備連接，用于基于所述最接近的圖像分塊對所述信號濾波圖像進行分塊處理以獲得多個分塊碎片，對每一個分塊碎片的冗余度進行測量，以將冗余度最小的分塊碎片作為參考分塊碎片；

曲率分析設備，與所述冗余度分析設備連接，用于提取所述參考分塊碎片中各個曲線的各個曲率，并在存在曲率超過限量的曲線時，發出觸發控制信號；

GPU處理芯片，與所述曲線分析設備連接，用于在接收到所述觸發控制信號時，基于所述各個曲線的各個曲率的平均值執行相應強度的曲線調整，以獲得并輸出曲率調整碎片；

瓷磚識別設備，分別與GPU處理芯片和喉管連接，用于識別出所述曲率調整碎片中的瓷磚區域，并基于所述瓷磚區域面積確定對應的喉管開度，所述瓷磚區域面積越大，確定的對應的喉管開度越大；

其中，所述GPU處理芯片還用于在未接收到所述觸發控制信號時，將所述參考分塊碎片作為曲率調整碎片輸出；

其中，所述數據切分設備、所述圖像測量設備、所述分塊解析設備和所述冗余度分析設備與同一供電輸入端連接；

其中，當所述信號濾波圖像中的目標小于三個時，所述數據切分設備將所述信號濾波圖像中的所有目標分別對應的各個目標圖案發送給所述圖像測量設備；

其中，當所述信號濾波圖像中的目標小于三個時，所述圖像測量設備接收所述各個目標圖案，獲取每一個目標圖案在所述信號濾波圖像中占據的像素點的數量，對所述各個目標圖案在所述信號濾波圖像中占據的像素點的數量求均值以獲得對應的像素點均值。

2.如權利要求1所述的喉管開度現場控制平臺，其特征在于：

所述信號濾波設備包括第一處理子設備和第二處理子設備，所述第一處理子設備與所述第二處理子設備連接。

3.如權利要求2所述的喉管開度現場控制平臺，其特征在于：

所述第一處理子設備用于獲取當前外殼四周圖像幀，將所述當前外殼四周圖像幀與之前最近接收到的歷史外殼四周圖像幀進行比較以獲得當前外殼四周圖像幀對應的圖像抖動平均值。

4.如權利要求3所述的喉管開度現場控制平臺，其特征在于：

所述第二處理子設備用于在接收到的圖像抖動平均值大于等于預設抖動閾值時，基于所述圖像抖動平均值確定對所述當前外殼四周圖像幀進行平均分割的圖像區域數量，所述圖像抖動平均值越高，對所述當前外殼四周圖像幀進行平均分割的圖像區域數量越多，對各個圖像區域分別執行基于圖像區域的自適應遞歸濾波處理操作以獲得各個濾波區域，圖像區域對比度越小，對圖像區域執行的自適應遞歸濾波處理操作力度越大，將各個濾波區域合并以獲得信號濾波圖像。