[發明專利]圖像飽和度增強的細節處理方法及裝置

有效

• 申請號: 201811333638.1
• 申請日: 2018-11-09
• 公開（公告）號: CN109636739B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 王珊;饒洋;陳云娜
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00;G06T7/90
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂;劉巍

1.一種圖像飽和度增強的細節處理方法，其特征在于，包括：

步驟10、在YCbCr或CIELAB色彩空間對圖像原始數據進行色彩增強處理；對于欲進行細節處理的像素i，獲得其色彩增強后的飽和度C_i’；

步驟20、對于欲進行細節處理的像素i，獲得對其飽和度進行非銳化掩蔽操作后的反饋值ΔC_i,USM；

步驟30、獲得像素i經細節處理后的飽和度C_i”，C_i”＝C_i’－ΔC_i,USM；

反饋值ΔC_i,USM＝μ*(ΔC_i-(1/N²)∑_j∈SΔC_j)，其中，ΔC_i代表像素i經過色彩增強后的飽和度C_i’與色彩增強前的飽和度C_i間的差值，S代表像素i周圍N*N大小的像素塊，j代表像素塊S中像素i以外的像素，ΔC_j代表像素j經過色彩增強后的飽和度C_j’與色彩增強前的飽和度C_j間的差值，N為大于2的自然數，μ為濾波增益系數，用于調整適應像素i周圍的銳度，0μ1。

2.如權利要求1所述的圖像飽和度增強的細節處理方法，其特征在于，N等于15，μ等于0.4。

3.如權利要求1所述的圖像飽和度增強的細節處理方法，其特征在于，像素的飽和度為像素在YCbCr空間中的CbCr分量或CIELAB空間中的AB分量。

4.如權利要求3所述的圖像飽和度增強的細節處理方法，其特征在于，像素的飽和度的計算公式為飽和度其中C1和C2為像素在YCbCr空間中的CbCr分量或CIELAB空間中的AB分量。

5.一種圖像飽和度增強的細節處理裝置，其特征在于，包括：

色彩增強處理模塊，用于在YCbCr或CIELAB色彩空間對圖像原始數據進行色彩增強處理；對于欲進行細節處理的像素i，獲得其色彩增強后的飽和度C_i’；

空間濾波模塊，用于對于欲進行細節處理的像素i，獲得對其飽和度進行非銳化掩蔽操作后的反饋值ΔC_i,USM；

細節處理模塊，用于獲得像素i經細節處理后的飽和度C_i”，C_i”＝C_i’－ΔC_i,USM；

所述反饋值ΔC_i,USM＝μ*(ΔC_i-(1/N²)∑_j∈SΔC_j)，其中，ΔC_i代表像素i經過色彩增強后的飽和度C_i’與色彩增強前的飽和度C_i間的差值，S代表像素i周圍N*N大小的像素塊，j代表像素塊S中像素i以外的像素，ΔC_j代表像素j經過色彩增強后的飽和度C_j’與色彩增強前的飽和度C_j間的差值，N為大于2的自然數，μ為濾波增益系數，用于調整適應像素i周圍的銳度，0μ1。

6.如權利要求5所述的圖像飽和度增強的細節處理裝置，其特征在于，N等于15，μ等于0.4。

7.如權利要求5所述的圖像飽和度增強的細節處理裝置，其特征在于，像素的飽和度為像素在YCbCr空間中的CbCr分量或CIELAB空間中的AB分量。

8.如權利要求7所述的圖像飽和度增強的細節處理裝置，其特征在于，像素的飽和度的計算公式為飽和度其中C1和C2為像素在YCbCr空間中的CbCr分量或CIELAB空間中的AB分量。