[發(fā)明專利]高強高韌β型鈦合金金相試樣的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811332869.0 | 申請日: | 2018-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN109238814A | 公開(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳靜怡;王瑩 | 申請(專利權(quán))人: | 成都先進金屬材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/32 | 分類號: | G01N1/32 |
| 代理公司: | 成都虹橋?qū)@聞?wù)所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 梁鑫;黃鑫 |
| 地址: | 610306 四川省成都市中國(四川)自由貿(mào)易試驗區(qū)成都市青白江區(qū)*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金相試樣 合金 制備 拋光 腐蝕 制備技術(shù)領(lǐng)域 金相腐蝕液 合金試樣 試驗基礎(chǔ) 無變形 有效地 鈦合金 放入 晶界 水中 加熱 保溫 打磨 清晰 觀察 試驗 | ||
本發(fā)明涉及高強高韌β型鈦合金金相試樣的制備方法,屬于鈦合金金相試樣制備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供了高強高韌β型鈦合金金相試樣的制備方法,包括如下步驟:a、取高強高韌β型鈦合金,進行打磨和拋光;b、將經(jīng)過拋光的試樣放入水中,加熱至50℃?100℃,保溫3min?5min;c、用金相腐蝕液腐蝕步驟b所得試樣,即得。本發(fā)明方法能夠有效地對高強高韌β型鈦合金試樣表面進行腐蝕,便捷地得到晶界清晰明顯、無變形層的金相試樣,為金相觀察、EBSD等試驗的順利進行提供了良好的試驗基礎(chǔ),具有很好的可行性和推廣前景。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及高強高韌β型鈦合金金相試樣的制備方法,屬于鈦合金金相試樣制備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
高強高韌β型鈦合金多指抗拉強度在1000MPa以上,組織多以β相存在的鈦合金,其在固溶狀態(tài)下一般具有較好的冷成型性。典型的高強高韌β型鈦合金如TB22鈦合金,具有強度高、延展性好、熱成形溫度低的優(yōu)點,可以生產(chǎn)板、帶、箔、絲、棒等加工材,也可用于制作高爾夫球頭的擊球面,自行車的變速輪,高檔眼鏡架等。
目前,在制備鈦合金金相試樣時,一般都使用kroll試劑進行腐蝕,其中氫氟酸:硝酸:水的比例約為1-2ml:2-4ml;94-97ml。由于鈦合金質(zhì)軟,磨拋過程中待觀測表面易出現(xiàn)形變孿晶應(yīng)力層,影響觀察效果,為去除應(yīng)力層,多需多次腐蝕,操作繁瑣。而高強高韌β型鈦合金由于其獨特的組織結(jié)構(gòu),使用常用腐蝕劑進行腐蝕時在多次重復(fù)腐蝕基礎(chǔ)上,也難以得到晶界清晰,襯度明顯,表面無應(yīng)力層的金相表面,從而影響金相觀察、掃描電鏡觀察及EBSD分析,不利于科研人員進行相關(guān)科研分析研究工作。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供高強高韌β型鈦合金金相試樣的制備方法。
本發(fā)明提供了高強高韌β型鈦合金金相試樣的制備方法,包括如下步驟:
a、取高強高韌β型鈦合金,進行打磨和拋光;
b、將經(jīng)過拋光的試樣放入水中,加熱至50℃-100℃,保溫3min-5min;優(yōu)選地,加熱至75℃-80℃,保溫3min-4min;
c、用金相腐蝕液腐蝕步驟b所得試樣,即得。
進一步地,所述打磨在自動磨拋機上進行,保持樣品盤轉(zhuǎn)速為順時針100RPM-150RPM,拋光盤轉(zhuǎn)速為逆時針100RPM-150RPM,樣品盤壓力為2.5DaN-3.5DaN。
優(yōu)選地,拋光盤轉(zhuǎn)速為逆時針150RPM,樣品盤壓力為3.0DaN-3.5DaN。
進一步地,所述打磨包括粗磨和精磨,其中,依次使用180#、1200#水砂紙進行粗磨,依次使用9μm、3μm拋光盤進行細(xì)磨。
進一步地,所述的制備方法滿足以下至少一項:
每道砂紙的粗磨時間為3min-5min;
優(yōu)選地,每道砂紙的粗磨時間為3min;
每道拋光盤的細(xì)磨時間為3min-5min;
優(yōu)選地,每道拋光盤的細(xì)磨時間為3min-4min。
進一步地,所述拋光滿足以下至少一項:
使用Al2O3拋光液進行拋光;
優(yōu)選地,使用0.03μm-0.05μm的Al2O3拋光液進行拋光;
在自動磨拋機上進行拋光,保持樣品盤轉(zhuǎn)速為順時針100RPM-150RPM,拋光盤轉(zhuǎn)速為逆時針100RPM-150RPM,樣品盤壓力為2.0DaN-3.0DaN;
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