[發(fā)明專利]一種對氯霉素類污染物光催化快速脫毒的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811332399.8 | 申請日: | 2018-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN109205961B | 公開(公告)日: | 2021-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊利明;陳政霖;楊麗霞;羅勝聯(lián) | 申請(專利權(quán))人: | 南昌航空大學 |
| 主分類號: | C02F9/14 | 分類號: | C02F9/14;C02F101/36 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務(wù)所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 330063 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氯霉素 污染物 光催化 快速 脫毒 方法 | ||
1.一種對氯霉素光催化快速脫毒的方法,其特征在于對氯霉素光催化快速脫毒的方法是按以下步驟進行的:
一、紫外光降解:將待降解的氯霉素溶液用紫外光照射10min~15min;
二、將細菌接種到LB液態(tài)培養(yǎng)基中,然后加入步驟一中經(jīng)過紫外光照射后的氯霉素溶液進行礦化分解10h~12h,即完成對氯霉素光催化快速脫毒;
所述的細菌與LB液態(tài)培養(yǎng)基的體積比為1:(300~310);
所述的細菌為大腸桿菌;
所述的步驟一中經(jīng)過紫外光照射后的氯霉素溶液與步驟二中所述的LB液態(tài)培養(yǎng)基的體積比為1:(6~7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對氯霉素光催化快速脫毒的方法,其特征在于步驟一中所述的紫外光的波長小于400nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對氯霉素光催化快速脫毒的方法,其特征在于步驟二中所述的細菌與LB液態(tài)培養(yǎng)基的體積比為1:300。
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