[發明專利]一種對氯霉素類污染物光催化快速脫毒的方法有效
| 申請號： | 201811332399.8 | 申請日： | 2018-11-09 |
| 公開（公告）號： | CN109205961B | 公開（公告）日： | 2021-05-14 |
| 發明（設計）人： | 楊利明;陳政霖;楊麗霞;羅勝聯 | 申請（專利權）人： | 南昌航空大學 |
| 主分類號： | C02F9/14 | 分類號： | C02F9/14;C02F101/36 |
| 代理公司： | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人： | 岳泉清 |
| 地址： | 330063 江*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氯霉素 污染物 光催化 快速 脫毒 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種對氯霉素光催化快速脫毒的方法，其特征在于對氯霉素光催化快速脫毒的方法是按以下步驟進行的：
一、紫外光降解：將待降解的氯霉素溶液用紫外光照射10min～15min；
二、將細菌接種到LB液態培養基中，然后加入步驟一中經過紫外光照射后的氯霉素溶液進行礦化分解10h～12h，即完成對氯霉素光催化快速脫毒；
所述的細菌與LB液態培養基的體積比為1:(300～310)；
所述的細菌為大腸桿菌；
所述的步驟一中經過紫外光照射后的氯霉素溶液與步驟二中所述的LB液態培養基的體積比為1:(6～7)。
2.根據權利要求1所述的一種對氯霉素光催化快速脫毒的方法，其特征在于步驟一中所述的紫外光的波長小于400nm。
3.根據權利要求1所述的一種對氯霉素光催化快速脫毒的方法，其特征在于步驟二中所述的細菌與LB液態培養基的體積比為1:300。
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