[發(fā)明專利]一種用于薄膜的印壓模具在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811330933.1 | 申請日: | 2018-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN109318472A | 公開(公告)日: | 2019-02-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何鑫;沈耿哲;江嘉怡;趙絲柔;楊為家;劉均炎;徐銳彬;陳章飛 | 申請(專利權(quán))人: | 五邑大學(xué) |
| 主分類號: | B29C59/02 | 分類號: | B29C59/02;B29L7/00 |
| 代理公司: | 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214 | 代理人: | 吳偉文 |
| 地址: | 529020 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 印壓 薄膜 活塞 下模 媒介 加熱裝置 印壓模具 側(cè)壁 加熱 腔室 密封圈 多個加熱裝置 壓力檢測裝置 薄膜接觸 內(nèi)側(cè)壁 排出口 輸入口 下端套 底端 內(nèi)開 排出 下端 酒精 配合 保證 | ||
本發(fā)明提供一種用于薄膜的印壓模具,包括印壓活塞、以及與印壓活塞相互配合的印壓下模,所述的印壓下模內(nèi)開設(shè)有用于放置待印壓薄膜的印壓腔室,所述的印壓腔室的內(nèi)側(cè)壁上和底端設(shè)置有多個加熱裝置,所述的印壓活塞的下端套設(shè)有多個密封圈,并且所述的印壓下模的側(cè)壁上還開設(shè)在有媒介輸入口,所述印壓下模的側(cè)壁下端還設(shè)置有用于排出媒介的媒介排出口,本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單,實用性強,通過水或者酒精等氣體或者液體作為媒介,從而避免印壓活塞直接與薄膜接觸,導(dǎo)致薄膜的結(jié)構(gòu)被破壞,并且通過加熱裝置對薄膜進行加熱,從而無需將薄膜通過另外的加熱裝置進行加熱,進一步提高了薄膜的印壓效率,另外,通過壓力檢測裝置保證薄膜的印壓質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種模具技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種用于薄膜的印壓模具。
背景技術(shù)
透明電極在太陽能的電池、觸摸屏、有機發(fā)光二極管(OLED)等電子器件中被廣泛應(yīng)用。透明導(dǎo)電膜層材料大多為透明導(dǎo)電金屬氧化物如導(dǎo)電有機物薄膜,石墨烯導(dǎo)電薄膜,單層碳納米管網(wǎng)格和氧化銦錫(ITO)。其中ITO在90%以上的透過率下,方阻小于100/sq,透光導(dǎo)電綜合性能優(yōu)異,但其主要缺點是綜合成本較高且柔性差等。導(dǎo)電有機物價格昂貴,穩(wěn)定差大部分用于實驗室中,而石墨烯,單層碳納米管制備工藝復(fù)雜,成本高,限制其進一步應(yīng)用。其中銀納米線隨機網(wǎng)格具有更大的成本優(yōu)勢和應(yīng)用前景。銀納米線由于其優(yōu)異的導(dǎo)電性和機械性能是具有潛力的新一代透明導(dǎo)電電極材料。銀納米線透明電極的制備技術(shù)包括其結(jié)構(gòu)儲存特征、分散技術(shù)、透明電極成膜及后處理等。其中后處理也對電極的這些性能產(chǎn)生較大影響。
常見的后處理技術(shù)主要有機械壓印法,熱熔法,引入介質(zhì)法,熱熔法由于其需要高溫環(huán)境,導(dǎo)致銀納米線負載材料的結(jié)構(gòu)損毀。引入介質(zhì)通常為導(dǎo)電有機物如聚3,4-乙撐二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸鹽(PEDOT:PSS)等,其價格昂貴,導(dǎo)電性差,不是理想選擇。而機械壓印法在膜層表面加以幾到幾十MPa的均勻壓力,搭接處厚度大因此首先受到擠壓,兩根搭接的AgNW被擠壓變形使接觸面積增大,使接觸電阻顯著下降,同時減少表面粗糙度,可以在低溫下制備,具有方法簡單,節(jié)能環(huán)保等優(yōu)勢。
但是,現(xiàn)有的印壓模具結(jié)構(gòu)復(fù)雜,操作困難,實用性差,而且印壓效果差,機械壓印時,由于模具的上模需要和銀納米線直接接觸,或通過一些固態(tài)媒介如鋼板,PET薄膜等來傳導(dǎo)壓力,由于兩根搭接銀納米線出具有更高的厚度,可以使兩根銀納米線被擠壓變形使接觸面積增大,減少其電阻和表面粗糙度。但是由于其需要接觸物體導(dǎo)致其不可避免的帶走銀納米線,導(dǎo)致薄膜的結(jié)構(gòu)被破壞,影響其導(dǎo)電性能。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供一種用于薄膜的印壓模具,該印壓模具通過以水或者酒精為印壓媒介,避免薄膜的結(jié)構(gòu)被破壞,并且能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜的加熱處理。
本發(fā)明的技術(shù)方案為:一種用于薄膜的印壓模具,包括印壓活塞、以及與印壓活塞相互配合的印壓下模,所述的印壓下模內(nèi)開設(shè)有用于放置待印壓薄膜的印壓腔室,所述的印壓腔室的內(nèi)側(cè)壁上和底端設(shè)置有多個加熱裝置,所述的印壓活塞的下端套設(shè)有多個密封圈,并且所述的印壓下模的側(cè)壁上還開設(shè)在有用于充入氣體或者液體的媒介輸入口,并且媒介輸入口還與媒介輸入管道連接,所述印壓下模的側(cè)壁下端還設(shè)置有用于排出媒介的媒介排出口,印壓薄膜時,通過媒介輸入管道想印壓腔室內(nèi)輸入水、酒精等媒介,印壓活塞通過水或酒精等相應(yīng)的媒介印壓薄膜,從而避免薄膜結(jié)構(gòu)和固體媒介直接接觸而破壞薄膜的結(jié)構(gòu),印壓完成后,通過媒介排出口將印壓腔室內(nèi)的媒介排出,并通過加熱裝置對薄膜進行加熱,使其上的酒精或水揮發(fā)掉。
進一步的,所述密封圈的數(shù)量為5-7個。
進一步的,所述印壓活塞的上端還設(shè)置有向外突出的限位部,通過限位部放置印壓活塞下端直接與薄膜接觸。
進一步的,所述的加熱裝置為設(shè)置在印壓腔室內(nèi)側(cè)壁內(nèi)的多個加熱片。
進一步的,所述的下模上還設(shè)置有壓力檢測裝置。
進一步的,所述的壓力檢測裝置為設(shè)置在印壓腔室內(nèi)側(cè)壁的壓力傳感器。
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