[發明專利]一種磁場線圈裝置、磁聚焦系統及其配置方法在審
| 申請號： | 201811328497.4 | 申請日： | 2018-11-09 |
| 公開（公告）號： | CN109524282A | 公開（公告）日： | 2019-03-26 |
| 發明（設計）人： | 吳振華;卿捷;胡旻 | 申請（專利權）人： | 電子科技大學 |
| 主分類號： | H01J3/22 | 分類號： | H01J3/22 |
| 代理公司： | 成都智弘知識產權代理有限公司 51275 | 代理人： | 陳春;丁亮 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 導磁金屬殼 磁場線圈 磁場線圈裝置 漏磁 磁聚焦系統 電子束通道 軸線方向 電子束 申請 電子束產生 磁場空間 聚焦作用 穩定傳輸 不均勻 不連續 導磁鐵 強磁場 側開 配置 聚焦 外圍 傳輸 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁場線圈裝置，其特征在于，包括：
磁場線圈(1)和導磁金屬殼(2)，所述導磁金屬殼(2)包裹在所述磁場線圈(1)的外圍，所述導磁金屬殼(2)靠近所述磁場線圈(1)的軸線方向的一側設有漏磁縫隙(3)，在所述導磁金屬殼(2)的內部形成一沿所述磁場線圈(1)的軸線方向分布的電子束通道。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述漏磁縫隙(3)的數量為兩個或兩個以上，所述兩個或兩個以上的漏磁縫隙(3)沿所述磁場線圈(1)的軸向方向均勻排列。
3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述漏磁縫隙(3)的數量為兩個或兩個以上，所述兩個或兩個以上的漏磁縫隙(3)沿所述磁場線圈(1)的軸向方向非均勻排列。
4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述導磁金屬殼(2)為導磁鐵殼。
5.一種磁聚焦系統，其特征在于，包括：
控制電路和權利要求1-4任一項所述的磁場線圈裝置，所述控制電路用于控制所述磁場線圈裝置中磁場線圈(1)的電流大小。
6.一種磁聚焦系統的配置方法，其特征在于，應用于權利要求5所述的磁聚焦系統，所述方法包括：
通過調節所述磁聚焦系統中漏磁縫隙(3)的形狀、尺寸、數量、位置，和/或磁場線圈(1)的電流，調節所述磁聚焦系統空間磁場。
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