[發明專利]一種用于外延生長系統的氣體注射裝置

在審

• 申請號: 201811328247.0
• 申請日: 2018-11-09
• 公開（公告）號: CN109338464A
• 公開（公告）日: 2019-02-15
• 發明（設計）人: 沈文杰;傅林堅;潘文博;湯承偉;董醫芳;麻鵬達;章杰峰;曹建偉
• 申請（專利權）人: 浙江求是半導體設備有限公司;浙江晶盛機電股份有限公司
• 主分類號: C30B25/14
• 分類號: C30B25/14;C30B25/16;C30B29/06
• 代理公司: 杭州中成專利事務所有限公司 33212
• 代理人: 周世駿

1.一種用于外延生長系統的氣體注射裝置，其特征在于，包括反應腔、氣體注射裝置與排氣裝置；

所述反應腔包括前空腔和后腔，后腔內設有水平基座，基座上端面用于放置襯底，下端連接旋轉軸，旋轉軸延伸至反應腔外，并與外部的驅動裝置相連；

所述氣體注射裝置通過前法蘭設于反應腔前端；所述氣體注射裝置主體為進氣法蘭，中部設有第二空腔，第二空腔后端與反應腔連通，第二空腔前端面為1/4圓弧形狀的曲面；所述進氣法蘭頂部開有第一進氣口，第二空腔上方設有第一空腔，第一進氣口與第一空腔通過通道相連，第一空腔包括兩部分，即左側的氣體緩沖腔A和右側的氣體分配室B；第一空腔通過歧管構件連接第二空腔；氣體注射裝置前端連接封板，封板后端設有一水平凸起，凸起的上表面為圓弧曲面，形狀與第二空腔的前端形狀相適配；

所述排氣裝置通過后法蘭設于反應腔后端。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣體注射裝置與前法蘭相接觸的配合面間設有O型圈或其他密封件。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述排氣裝置與后法蘭相接觸的配合面間設有O型圈或其他密封件。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述岐管構件包括底板，底板水平方向上沿直線布有若干孔組，每個孔組內包括若干有一定間隔、孔徑相同的豎向通孔；位于正中位置的孔組直徑最大，兩側的孔組關于正中孔組對稱，且孔組的孔徑自中間向兩側遞減。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述岐管構件上的通孔形狀為圓形、正方形或正六邊形。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，第二空腔前端圓弧曲面右端點的高度與第二空腔的下底面等高，即第二空腔前側的圓弧曲面與下底面是圓滑過渡的。