[發明專利]一種利用納米技術進行信息加密讀寫的方法

有效

• 申請號: 201811324402.1
• 申請日: 2018-11-08
• 公開（公告）號: CN109271803B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 張利勝;曾卓;祁幸男;王培杰;李志鵬;方炎
• 申請（專利權）人: 首都師范大學
• 主分類號: G06F21/60
• 分類號: G06F21/60
• 代理公司: 北京匯智勝知識產權代理事務所(普通合伙) 11346
• 代理人: 石輝

1.一種利用納米技術進行信息加密讀寫的方法，包括將信息加密寫入載體的過程，以及對所述載體上的所述信息進行解密的過程，其特征在于，

所述將信息加密寫入載體的過程包括：基底預處理，鍍膜，吸附第一光敏分子層，寫入第一加密信息，覆蓋第一截止層，在第N-1截止層上吸附第N光敏分子層，寫入第N加密信息，覆蓋第N截止層，N為大于等于2小于等于M的自然數，M為根據加密需要預設的值；其中，不同的光敏分子層使用不同的光敏分子，所述光敏分子對特定頻率以上的光發生反應生成新分子，對于低于所述特定頻率的光不發生反應，低層的光敏分子的特定頻率高于高層的光敏分子的特定頻率；所述光敏分子層和所述截止層的厚度均為納米尺度；

其中，所述基底預處理包括：選取硬質材料作為基底，對所述基底的表面進行拋光、清洗；

所述鍍膜包括：在所述基底的表面鍍制貴金屬單質、復合金屬、石墨烯或半導體材料薄膜，用于增強信息寫入和讀取的效果，并將所述薄膜浸入醇類或超純水溶劑中使用超聲機超聲處理，使所述薄膜表面易于吸附分子；

吸附第一光敏分子層包括：使用物理氣相沉積方式、化學氣相沉淀方式、旋轉涂抹法或者直接將鍍膜后的所述基底浸泡入預先選擇的第一光敏分子溶液中，在所述薄膜表面吸附第一光敏分子層；

寫入第一加密信息包括：利用與第一光敏分子對應的第一特定頻率以上的激光照射所述第一光敏分子層，所述激光靜止時的照射區域為納米尺度，受到激光照射的第一光敏分子反應生成第一新分子；根據需要加密的信息控制激光的移動，得到所述第一新分子的特定排列；

覆蓋第一截止層包括：在寫入所述信息后的所述第一光敏分子層覆蓋第一截止層，用于阻斷環境中所含大于所述第一特定頻率的電磁波，但允許用于讀取所述信息的低頻光的透過；

吸附第N光敏分子層包括：使用物理氣相沉積方式、化學氣相沉淀方式、旋轉涂抹法或者直接將第N-1次覆蓋截止層后的所述基底浸泡入預先選擇的第N光敏分子溶液中，在所述第N-1截止層表面吸附第N光敏分子層；

寫入第N加密信息包括：利用與第N光敏分子對應的第N特定頻率以上的激光照射所述第N光敏分子層，所述激光靜止時的照射區域為納米尺度，受到激光照射的光敏分子反應生成第N新分子；根據需要加密的信息控制激光的移動，得到所述第N新分子的特定排列；

覆蓋第N截止層包括：在寫入所述信息后的所述第N光敏分子層覆蓋第N截止層，用于阻斷環境中所含大于所述第N特定頻率的電磁波，但允許用于讀取所述信息的低頻光的透過；

所述載體包括所述基底、所述薄膜、M層光敏分子層和M層截止層，需要加密的信息被加密為所述M層光敏分子層中的至少一層的新分子的特定排列；

所述對所述載體上的所述信息進行解密的過程包括：利用光譜二維成像Image技術或掃描成像Mapping技術，以所述第一至第N新分子中的至少一種的指紋譜為掃描對象利用所述低頻激光掃描所述載體，得到所述第一至第N新分子中的至少一種的特定排列，實現對所述信息的解密。

2.如權利要求1所述的利用納米技術進行信息加密讀寫的方法，其特征在于，所述硬質材料包括硅、石英、云母、金、銀、銅、鋁、玻璃和合金。

3.如權利要求2所述的利用納米技術進行信息加密讀寫的方法，其特征在于，所述拋光、清洗包括使用超純水、無水乙醇、丙酮、無水乙醇、超純水進行超聲清潔。

4.如權利要求1所述的利用納米技術進行信息加密讀寫的方法，其特征在于，在所述基底的表面鍍制貴金屬單質、復合金屬、石墨烯或半導體材料薄膜包括：

采用包括電阻式蒸發、電子束蒸發、電弧蒸發、激光蒸發、空心陰極蒸發在內的真空蒸發裝置、包括濺射沉積、離子鍍、反應蒸發沉積、離子束輔助沉積、離化團束沉積、等離子體浸沒式離子沉積在內的物理氣相沉積、包括高溫和低溫化學氣相沉積裝置、低壓化學氣相沉積裝置、激光輔助化學氣相沉積裝置、金屬有機化合物化學氣相沉積、等離子體輔助化學氣相沉積在內的化學氣相沉積或旋轉涂抹法鍍制所述薄膜。