[發(fā)明專利]一種低清洗劑現(xiàn)場容量的掩模板清洗的方法和裝置

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201811324147.0
• 申請日: 2018-11-08
• 公開（公告）號: CN111151500A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊光明;黃文勝;李衛(wèi)
• 申請（專利權(quán)）人: 世源科技工程有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種低清洗劑現(xiàn)場容量有機(jī)蒸鍍工藝的掩模板清洗的方法，其特征在于，該方法包括：

將有機(jī)蒸鍍工藝的掩模板放入一端開口的清洗槽內(nèi)；

在清洗槽內(nèi)注入清洗劑；

在掩模板進(jìn)入清洗槽后對清洗槽的開口進(jìn)行封閉；

通過改變清洗槽腔的內(nèi)壁形狀來改變清洗槽的容積使得清洗劑與所有待清洗的掩模板表面接觸；

在掩模板清洗槽的兩端分別接外部補液單元和外泄單元，使得清洗槽內(nèi)的清洗劑的純度控制在要求范圍內(nèi)；

清洗完畢，清洗槽內(nèi)壁恢復(fù)初始形狀，開口打開，掩模板從清洗槽內(nèi)取出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該方法還包括：在掩模板清洗槽兩端接入清洗劑循環(huán)單元，使得在至少包含掩模板整個待清洗面范圍內(nèi)的清洗槽中實現(xiàn)清洗劑循環(huán)流動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該方法還包括：掩模板清洗完畢，在開口打開移出前，將槽內(nèi)尚不需要外排的清洗劑排到槽腔外暫存，清洗劑排到槽腔后利用真空單元對槽腔抽負(fù)壓，以加快掩模板干燥。

4.一種低清洗劑現(xiàn)場容量有機(jī)蒸鍍工藝的掩模板清洗的裝置，其特征在于，該裝置包括：內(nèi)壁形狀可變的清洗槽、清洗槽艙門、清洗槽補液單元、清洗槽外泄單元、掩模板移載器、清洗槽控制單元；

內(nèi)壁形狀可變的清洗槽，用于實現(xiàn)利用盡可能少的清洗劑來完成掩模板的清洗；

清洗槽艙門，用于實現(xiàn)清洗槽掩模板入口的打來或關(guān)閉；

清洗槽補液單元，用于實現(xiàn)對清洗槽內(nèi)的液體進(jìn)行補充；

清洗槽外泄單元，用于實現(xiàn)將清洗槽內(nèi)的液體排出；

掩模板移載器，用于實現(xiàn)將掩模板移入或移出清洗槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，該裝置還包括清洗劑循環(huán)單元，用于在至少包含掩模板整個待清洗面范圍內(nèi)的清洗槽中實現(xiàn)清洗劑循環(huán)流動。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，該裝置還包括真空單元，用于在清洗槽內(nèi)對清洗后的掩模板實現(xiàn)干燥處理。