[發明專利]掩膜版的處理系統

有效

• 申請號: 201811321294.2
• 申請日: 2018-11-07
• 公開（公告）號: CN109239953B
• 公開（公告）日: 2021-03-05
• 發明（設計）人: 陳林
• 申請（專利權）人: 成都中電熊貓顯示科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1337;G03F7/20
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 榮甜甜;劉芳

1.一種掩膜版的處理系統，其特征在于，包括：紫外線垂直配向UV2A露光裝置、掩膜版檢查裝置、處理裝置；

所述掩膜版檢查裝置分別與所述UV2A露光裝置、所述處理裝置連接；

所述UV2A露光裝置，用于獲取待選掩膜版，并將所述待選掩膜版的標識發送給所述掩膜版檢查裝置，所述待選掩膜版為第一距離大于距離閾值的掩膜版，所述第一距離為掩膜版與對應的基板之間的距離；

所述掩膜版檢查裝置，用于根據所述待選掩膜版的標識對所述待選掩膜版進行檢查，獲取多個目標掩膜版，并將多個所述目標掩膜版的標識發送給所述處理裝置，所述目標掩膜版為所述待選掩膜版中存在新增劃痕的掩膜版；

所述處理裝置，用于根據每個所述目標掩膜版的標識，獲取每個目標掩膜版的劃痕檢查結果，并根據每個所述目標掩膜版的劃痕檢查結果，對每個所述目標掩膜版進行處理。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述系統還包括：制程裝置，所述制程裝置與所述處理裝置連接；

所述處理裝置，還用于控制所述制程裝置對每個所述目標掩膜版對應的多個基板進行配向檢查；

根據每個所述目標掩膜版的劃痕檢查結果，以及，每個所述目標掩膜版對應的多個基板的配向檢查結果，對每個所述目標掩膜版進行處理。

3.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述目標掩膜版包括第一目標掩膜版，

當第一目標掩膜版的劃痕檢查結果為刮傷時，所述處理裝置，具體用于控制所述制程裝置對第一目標掩膜版對應的N個第一基板進行配向檢查，N為大于0的整數；

根據N個所述第一基板的配向檢查結果，對所述第一目標掩膜版進行處理。

4.根據權利要求3所述的系統，其特征在于，

所述處理裝置，具體用于當N個所述第一基板的配向檢查結果中配向不良的比例大于第一閾值時，禁止使用所述第一目標掩膜版，所述配向不良為基板上顯示有亮度不均的區域。

5.根據權利要求3所述的系統，其特征在于，所述目標掩膜版包括第二目標掩膜版，

當第二目標掩膜版的劃痕檢查結果為第一類刮透時，所述處理裝置，具體用于控制所述制程裝置對第二目標掩膜版對應的M個第二基板進行配向檢查，M為大于0且小于N的整數，所述第一類刮透為能夠修復的刮透；

根據M個所述第二基板的配向檢查結果，對所述第二目標掩膜版進行處理。

6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，

所述處理裝置，具體用于當M個所述第二基板的配向檢查結果中配向不良的比例大于第一閾值時，禁止使用所述第二目標掩膜版。

7.根據權利要求6所述的系統，其特征在于，

所述處理裝置，具體用于當所述第二基板的配向檢查結果中配向不良的比例小于所述第一閾值時，獲取所述第二目標掩膜版對應的X個所述第二基板的配向檢查結果，當X個所述第二基板的配向檢查結果中配向不良的比例大于所述第一閾值時，禁止使用所述第二目標掩膜版，X為大于N的整數。

8.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述目標掩膜版包括第三目標掩膜版，

所述處理裝置，具體用于當第三目標掩膜版的劃痕檢查結果為第二類刮透時，禁止使用所述第三目標掩膜版，所述第二類刮透為不能修復的刮透。

9.根據權利要求8所述的系統，其特征在于，

所述處理裝置，還用于禁止使用所有禁止使用的目標掩膜版對應的基板。

10.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，

所述制程裝置，用于當檢測到所述目標掩膜版對應的基板的灰階圖像中存在源極-柵極弱線不良時，確定所述目標掩膜版的基板配向不良。