[發(fā)明專利]置氫熱處理爐

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811318577.1
• 申請日: 2018-11-07
• 公開（公告）號: CN109161827B
• 公開（公告）日: 2023-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 于琪琪;王守仁;溫道勝;王高琦;劉文濤;顏新宇;吳戍戌;付坤;孫兆磊;朱國棟
• 申請（專利權(quán)）人: 濟南大學
• 主分類號: C22F1/02
• 分類號: C22F1/02;C22F1/18;C21D1/74;C21D9/00
• 代理公司: 山東眾成清泰律師事務(wù)所 37257
• 代理人: 丁修亭

1.一種置氫熱處理爐，其特征在于，包括：

外殼，為一側(cè)開有外爐口的封閉殼體；

隔熱內(nèi)襯，裝設(shè)于外殼內(nèi)壁面，且在外爐口側(cè)開有口部；

爐管，水平地安裝在隔熱內(nèi)襯內(nèi)，位于外爐口側(cè)的一端構(gòu)成內(nèi)爐口，與內(nèi)爐口相對的一端開有配氣孔而形成配氣端；內(nèi)爐口與外爐口間留有給定距離；

內(nèi)爐門，在爐管的軸向裝配在內(nèi)爐口側(cè)；

外爐門，配置在外爐口處；以及

加熱元件，用于爐管的加熱。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的置氫熱處理爐，其特征在于，隔熱內(nèi)襯形成一管腔，該管腔與爐管共軸線；

提供一環(huán)形的主支架和一環(huán)形的副支架，主支架的環(huán)孔用于支撐爐管的內(nèi)爐口端，副支架的環(huán)孔用于支撐配氣端；

相應(yīng)地，主支架和副支架支撐在管腔內(nèi)壁；

加熱元件位于主支架和副支架之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的置氫熱處理爐，其特征在于，內(nèi)爐口自主支架環(huán)孔的內(nèi)爐口側(cè)露出；

內(nèi)爐門的爐管側(cè)設(shè)有內(nèi)凸環(huán)，該內(nèi)凸環(huán)的環(huán)孔與內(nèi)爐口外廓構(gòu)成軸孔配合；

主支架具有支撐在管腔內(nèi)壁的支撐環(huán)并在支撐環(huán)的內(nèi)爐門側(cè)具有外凸環(huán)，外凸環(huán)的內(nèi)廓面與內(nèi)凸環(huán)的外廓面接合；

內(nèi)凸環(huán)與支撐環(huán)間設(shè)有密封件。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的置氫熱處理爐，其特征在于，支撐環(huán)適配于密封件設(shè)有環(huán)槽；

所述密封件包括一具有圓截面的密封環(huán)架和附著在密封環(huán)架上的水玻璃密封層。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的置氫熱處理爐，其特征在于，內(nèi)凸環(huán)的外廓面為外錐形結(jié)構(gòu)；

外凸環(huán)的內(nèi)廓面為內(nèi)錐形結(jié)構(gòu)，該內(nèi)錐形結(jié)構(gòu)的錐度與外錐形結(jié)構(gòu)的錐度相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的置氫熱處理爐，其特征在于，內(nèi)爐門具有法蘭盤，以通過螺釘安裝在所述支撐環(huán)上；

法蘭盤與支撐環(huán)間留有裝配距離。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的置氫熱處理爐，其特征在于，內(nèi)爐門還具有與外凸環(huán)外廓配合的外環(huán)，外環(huán)末端形成所述法蘭盤。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的置氫熱處理爐，其特征在于，外爐門為側(cè)鉸鏈式外爐門。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的置氫熱處理爐，其特征在于，外爐門具有嵌入外爐口的凸部和圍繞凸部所設(shè)的密封環(huán)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的置氫熱處理爐，其特征在于，位于爐管上側(cè)的隔熱內(nèi)襯為雙層。