[發明專利]一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法在審
| 申請號： | 201811316000.7 | 申請日： | 2018-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN109395707A | 公開（公告）日： | 2019-03-01 |
| 發明（設計）人： | 劉澤山;滕紹立;師桂英;劉瑞蓮 | 申請（專利權）人： | 江蘇永冠給排水設備有限公司 |
| 主分類號： | B01J20/34 | 分類號： | B01J20/34;B01J20/04;C02F1/28;C02F101/14 |
| 代理公司： | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 李悅聲 |
| 地址： | 221116 江蘇省徐州市銅山*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 羥基磷灰石 除氟濾料 濾料 浸泡 氫氧化鈉溶液 濾料表層 原位再生 氟離子 再生 脫氟 化學反應 粒狀濾料 磷酸溶液 再生效率 重新生成 傳統的 高效率 除氟 放入 吸附 洗脫 飽和 恢復 保證 | ||
1.一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于包括如下步驟：
a、脫氟處理：將已被氟離子飽和的羥基磷灰石粒狀濾料在氫氧化鈉溶液中靜置浸泡一段時間T1，將吸附在羥基磷灰石濾料表層的氟離子洗脫下來，將溶液排掉并清洗至中性；
b、原位再生處理：將脫氟處理后的羥基磷灰石濾料在磷酸溶液中靜置浸泡一段時間T2，將溶液排掉，將經磷酸溶液處理后的羥基磷灰石濾料放入氫氧化鈉溶液中靜置浸泡一段時間T3，使羥基磷灰石濾料表層發生化學反應重新生成羥基磷灰石，恢復羥基磷灰石的除氟能力，再將溶液排掉并清洗至中性。
2.根據權利要求1所述的一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于：所述步驟a中氫氧化鈉溶液的質量濃度為0.5～1.0％。
3.根據權利要求1所述的一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于：所述步驟b中磷酸溶液的質量濃度為3.0～15％。
4.根據權利要求1所述的一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于：所述步驟b中氫氧化鈉溶液的質量濃度為0.5～2.0％。
5.根據權利要求1所述的一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于：所述步驟a中羥基磷灰石濾料與氫氧化鈉溶液的質量比為1:0.5～1:1，靜置浸泡的一段時間T1為12～24h，浸泡后將濾料清洗至中性。
6.根據權利要求1所述的一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于：所述步驟b中羥基磷灰石濾料與磷酸溶液的質量比為1:0.5～1:1，靜置浸泡的一段時間T2為12～24h，浸泡后將溶液排掉。
7.根據權利要求1所述的一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于：所述步驟b中羥基磷灰石濾料與氫氧化鈉溶液的質量比為1:0.5～1:1，靜置浸泡的一段時間T3為12～24h，浸泡后將濾料清洗至中性。
8.根據權利要求7所述的一種羥基磷灰石除氟濾料的再生方法，其特征在于：所述步驟a中已被氟離子飽和的羥基磷灰石粒狀濾料的粒徑為0.5～2.0mm。
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