[發明專利]一種直寫式曝光機及其標定方法在審
| 申請號: | 201811312728.2 | 申請日: | 2018-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN109240047A | 公開(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 蘇州源卓光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 蘇州國誠專利代理有限公司 32293 | 代理人: | 王麗 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 下吸盤 標定 多軸運動 曝光機 相機 基板 直寫 底座 對準組件 基板臺面 透明標記 龍門 鏡頭 三維空間 朝上設置 對位系統 基板設置 曝光圖形 曝光位置 曝光系統 中心重合 基板臺 生產 | ||
1.一種直寫式曝光機,包括底座和設置在所述底座上的多軸運動平臺,所述多軸運動平臺上安裝有基板臺面,基板設置在所述基板臺面上,所述多軸運動平臺能夠帶動基板在三維空間中運動,所述底座上設置有龍門機構,曝光系統、對位系統設置在所述龍門機構上,其特征在于:所述基板臺面一側設置有對準組件,所述對準組件包括下吸盤相機,所述下吸盤相機的鏡頭朝上設置,所述下吸盤相機的鏡頭上方設置有透明標記層,所述透明標記層上設置有標定基礎點,所述下吸盤相機的鏡頭的中心與所述標定基礎點的中心重合。
2.根據權利要求1所述的一種直寫式曝光機,其特征在于:所述多軸運動平臺包括y軸運動組件、x軸運動組件、z軸運動組件以及θ軸運動組件,所述y軸運動組件設置在底座上,所述x軸運動組件設置在y軸運動組件上,所述z軸運動組件和所述θ軸運動組件一體設置固定在x軸運動組件上,所述基板臺面設置在呈一體設置的z軸和θ軸運動組件上,所述X軸運動組件和y軸運動組件配合能夠使得所述基板臺面在平行于所述底座的平面內移動,所述z軸運動組件能夠使得所述基板臺面的基板運動到曝光和對位的焦面,所述θ軸運動組件能夠實現所述基板臺面上的基板的旋轉。
3.根據權利要求2所述的一種直寫式曝光機,其特征在于:所述曝光系統包括曝光鏡頭,所述對位系統包括CCD相機、基準鏡頭和照明光源。
4.根據權利要求1所述的一種直寫式曝光機,其特征在于:所述透明標記層為玻璃層。
5.根據權利要求3所述的一種直寫式曝光機,其特征在于:所述底座和所述龍門機構通過螺釘連接,所述y軸運動組件通過螺釘鎖緊到所述底座上,x軸運動組件通過螺釘鎖緊到y軸運動組件上,所述z軸運動組件和所述θ軸運動組件通過螺釘鎖緊到x軸運動組件上,所述CCD相機和所述基準鏡頭通過螺紋接口連接,所述照明光源通過螺釘鎖緊到所述基準鏡頭上,所述對準系統通過螺釘鎖緊到所述龍門上。
6.根據權利要求1所述的一種直寫式曝光機,其特征在于:所述基板臺面平面度誤差小于100um。
7.根據權利要求1所述的一種直寫式曝光機,其特征在于:所述底座為大理石底座。
8.根據權利要求1所述的一種直寫式曝光機,其特征在于:所述基板臺面的一側還設置有定位標尺,所述基板通過所述定位標尺定位置于所述基板臺面上。
9.一種權利要求3所述的直寫式曝光機的標定方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟a:通過X軸運動組件和y軸運動組件配合運動使得對準組件的標定基礎點移動到曝光系統的曝光鏡頭的正下方,得出曝光鏡頭的位置;
步驟b:通過X軸運動組件和y軸運動組件配合運動使得對準組件的標定基礎點移動到對位系統的基準鏡頭的正下方,得出基準鏡頭的位置;
步驟c:對比曝光鏡頭的位置與基準鏡頭的位置,得出曝光鏡頭與基準鏡頭相對的位置關系;
步驟d:通過X軸運動組件和y軸運動組件配合運動,利用對位系統的基準鏡頭標定基板臺面上基板的基準點,根據步驟c得出的曝光鏡頭與基準鏡頭相對的位置關系,從而得出曝光鏡頭與基準點的位置關系,從而得出曝光系統所需的曝光起始點。
10.根據權利要求9所述的直寫式曝光機的標定方法,其特征在于:所述標定基礎點為透明標記層上的至少三個標記點構成的分度圓的圓心。
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