[發(fā)明專利]一種雙平臺(tái)全周打磨拋光裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811308840.9 | 申請日: | 2018-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN109590868A | 公開(公告)日: | 2019-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王華 | 申請(專利權(quán))人: | 王華 |
| 主分類號: | B24B27/00 | 分類號: | B24B27/00;B24B55/06 |
| 代理公司: | 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 35203 | 代理人: | 范小艷;徐勛夫 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 打磨拋光 工位 打磨拋光裝置 往復(fù)位移 第一端 工作點(diǎn) 雙平臺(tái) 人工成本 主控單元 作業(yè)效率 | ||
本發(fā)明公開一種雙平臺(tái)全周打磨拋光裝置及方法,包括第一打磨拋光單元、第二打磨拋光單元及主控單元;第一、第二打磨拋光單元圍繞一打磨拋光區(qū)布置;打磨拋光區(qū)設(shè)置有第一、第二端工位點(diǎn);第一打磨拋光單元以第一端工作點(diǎn)為打磨拋光起點(diǎn)、第二端工位點(diǎn)為打磨拋光終點(diǎn),第一打磨拋光單元于打磨拋光區(qū)的一側(cè)往復(fù)位移于第一、第二端工位點(diǎn)之間;所述第二打磨拋光單元以第二端工作點(diǎn)為打磨拋光起點(diǎn)、第一端工位點(diǎn)為打磨拋光終點(diǎn),第二打磨拋光單元于打磨拋光區(qū)的另一側(cè)往復(fù)位移于第一、第二端工位點(diǎn)之間;如此,實(shí)現(xiàn)了對工件的周向打磨拋光,大幅提升了作業(yè)效率,降低人工成本,同時(shí),提高了打磨拋光質(zhì)量,避免出現(xiàn)打磨拋光局部不到位,適于推廣應(yīng)用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及打磨拋光領(lǐng)域技術(shù),尤其是指一種雙平臺(tái)全周打磨拋光裝置及方法。
背景技術(shù)
拋光打磨是工業(yè)制造業(yè)內(nèi)必要工序,以五金件的打磨拋光作業(yè)為例,一般需要針對五金產(chǎn)品的模線、披鋒、毛刺、凸點(diǎn)等瑕疵的打磨、拋光;現(xiàn)有技術(shù)中,最早是由人工手握工件在打磨機(jī)、拋光機(jī)上進(jìn)行處理,其存在效率低下、人工誤差大、品質(zhì)一致性差、對作業(yè)人員身心危害大等諸多缺陷。
后來,業(yè)內(nèi)出現(xiàn)了不少自動(dòng)化打磨拋光設(shè)備,相比之前的人工作業(yè)方式,著實(shí)有了很大進(jìn)步,但是,現(xiàn)有技術(shù)中的自動(dòng)打磨拋光設(shè)備,尚存在一些不足,例如:作業(yè)效率受局限,難以得到進(jìn)一步提升,打磨拋光容易出現(xiàn)處理不到位的現(xiàn)象,尤其是對于一些產(chǎn)品的周向需打磨拋光的情形而言,更是難以做到打磨拋光符合加工品質(zhì)要求;以及,現(xiàn)有的自動(dòng)化打磨拋光設(shè)備仍存在不少人工參與工序,人工成本高。
因此,申請人精心研究了一種新的技術(shù)方案來解決上述問題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)存在之缺失,其主要目的是提供一種雙平臺(tái)全周打磨拋光裝置及方法,其實(shí)現(xiàn)了對工件的周向打磨拋光,大幅提升了作業(yè)效率,降低人工成本,同時(shí),提高了打磨拋光質(zhì)量,避免出現(xiàn)打磨拋光局部不到位的現(xiàn)象,適于推廣應(yīng)用。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下之技術(shù)方案:
一種雙平臺(tái)全周打磨拋光裝置,包括有第一打磨拋光單元、第二打磨拋光單元及主控單元,所述主控單元分別連接于第一打磨拋光單元、第二打磨拋光單元;第一打磨拋光單元、第二打磨拋光單元圍繞一打磨拋光區(qū)布置;所述打磨拋光區(qū)設(shè)置有第一端工作點(diǎn)、第二端工位點(diǎn);所述第一打磨拋光單元以第一端工作點(diǎn)為打磨拋光起點(diǎn)、第二端工位點(diǎn)為打磨拋光終點(diǎn),第一打磨拋光單元于打磨拋光區(qū)的一側(cè)往復(fù)位移于第一端工作點(diǎn)、第二端工位點(diǎn)之間;所述第二打磨拋光單元以第二端工作點(diǎn)為打磨拋光起點(diǎn)、第一端工位點(diǎn)為打磨拋光終點(diǎn),第二打磨拋光單元于打磨拋光區(qū)的另一側(cè)往復(fù)位移于第一端工作點(diǎn)、第二端工位點(diǎn)之間。
作為一種優(yōu)選方案,所述第一打磨拋光單元包括有第一橫向位移機(jī)構(gòu)、第一豎向位移機(jī)構(gòu)以及第一打磨拋光機(jī)頭,所述第一打磨拋光機(jī)頭連接于第一豎向位移機(jī)構(gòu)且相對第一豎向位移機(jī)構(gòu)可豎向往復(fù)位移式裝設(shè),第一豎向位移機(jī)構(gòu)連接第一橫向位移機(jī)構(gòu)且相對第一橫向位移機(jī)構(gòu)可橫向往復(fù)位移式裝設(shè);所述第一打磨拋光機(jī)頭包括有左右布置的第一拋光頭、第一打磨頭;
所述第二打磨拋光單元包括有第二橫向位移機(jī)構(gòu)、第二豎向位移機(jī)構(gòu)以及第二打磨拋光機(jī)頭,所述第二打磨拋光機(jī)頭連接于第二豎向位移機(jī)構(gòu)且相對第二豎向位移機(jī)構(gòu)可豎向往復(fù)位移式裝設(shè),第二豎向位移機(jī)構(gòu)連接第二橫向位移機(jī)構(gòu)且相對第二橫向位移機(jī)構(gòu)可橫向往復(fù)位移式裝設(shè);所述第一打磨拋光機(jī)頭包括有左右布置的第二打磨頭、第二拋光頭;
所述第一端工作點(diǎn)、第二端工位點(diǎn)分別位于打磨拋光區(qū)的左、右端;所述第一、第二豎向位移機(jī)構(gòu)分別對應(yīng)第一、第二端工作點(diǎn)的外側(cè)布置,所述第一、第二橫向位移機(jī)構(gòu)分別對應(yīng)打磨拋光區(qū)的前、后側(cè)布置。
作為一種優(yōu)選方案,所述第一打磨頭由第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)連接,所述第一打磨頭經(jīng)同步帶傳動(dòng)連接于第一拋光頭,所述第一拋光頭連接有第一浮動(dòng)彈性結(jié)構(gòu),所述第一拋光頭相對第一打磨頭可彈性位移式設(shè)置;
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