[發(fā)明專利]用于驅(qū)除酸霧的設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811305436.6 | 申請日: | 2018-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN111140548A | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 方慧文;儲濤;林建國;段建坤;余欣雨 | 申請(專利權(quán))人: | 湖北鼎泰高科有限公司 |
| 主分類號: | F04F1/06 | 分類號: | F04F1/06;F04B41/06;G01N1/44;B08B15/04 |
| 代理公司: | 北京眾達(dá)德權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570 | 代理人: | 劉杰 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖新技*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 驅(qū)除 設(shè)備 | ||
1.一種用于驅(qū)除酸霧的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括:
操作室,所述操作室上設(shè)置有抽風(fēng)窗口;
石墨消解儀,所述石墨消解儀置于所述操作室內(nèi);
第一空氣泵,所述第一空氣泵與所述石墨消解儀的腔體連接,用于向所述石墨消解儀的腔體內(nèi)輸送正壓空氣;
第二空氣泵,所述第二空氣泵與所述石墨消解儀的腔體連接,用于向所述石墨消解儀的腔體內(nèi)輸送正壓空氣;
第三空氣泵,所述第三空氣泵與所述石墨消解儀的腔體連接,用于向所述石墨消解儀的腔體內(nèi)輸送正壓空氣;
第一充氣部位,設(shè)置在所述石墨消解儀的外殼上,和所述第一空氣泵連接;
第二充氣部位,設(shè)置在所述石墨消解儀的外殼上,和所述第二空氣泵連接;
第三充氣部位,設(shè)置在所述石墨消解儀的外殼上,和所述第三空氣泵連接。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括:
第一輸氣管道,所述第一輸氣管道包括第一進(jìn)氣口和第一出氣口;所述第一空氣泵通過所述第一進(jìn)氣口和所述第一輸氣管道連接,且所述第一輸氣管道通過所述第一出氣口和所述石墨消解儀的腔體連接;
第二輸氣管道,所述第二輸氣管道包括第二進(jìn)氣口和第二出氣口;所述第二空氣泵通過所述第二進(jìn)氣口和所述第二輸氣管道連接,且所述第二輸氣管道通過所述第二出氣口和所述石墨消解儀的腔體連接;正壓空氣通過第二空氣泵由第二進(jìn)氣口進(jìn)入第二輸氣管道,并由第二出氣口傳輸至石墨消解儀的腔體的腔體內(nèi);
第三輸氣管道,所述第三輸氣管道包括第三進(jìn)氣口和第三出氣口;所述第三空氣泵通過所述第三進(jìn)氣口和所述第三輸氣管道連接,且所述第三輸氣管道通過所述第三出氣口和所述石墨消解儀的腔體連接;正壓空氣通過第三空氣泵由第三進(jìn)氣口進(jìn)入第三輸氣管道,并由第三出氣口傳輸至石墨消解儀的腔體的腔體內(nèi);
且,所述第一輸氣管道的第一出氣口設(shè)置在所述第一充氣部位處,并通過所述第一充氣部位向所述石墨消解儀的腔體內(nèi)部輸送第一方向的正壓空氣;所述第二輸氣管道的第二出氣口設(shè)置在所述第二充氣部位處,并通過所述第二充氣部位向所述石墨消解儀的腔體內(nèi)部輸送第二方向的正壓空氣;所述第三輸氣管道的第三出氣口設(shè)置在所述第三充氣部位處,并通過所述第三充氣部位向所述石墨消解儀的腔體內(nèi)部輸送第三方向的正壓空氣。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括:
第一電子閥,所述第一電子閥設(shè)置在所述第一輸氣管上;
第一傳感器,與所述第一電子閥連接,用于信號傳輸。
4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括:
第一濃度檢測儀,所述第一濃度檢測儀固定于所述石墨消解儀內(nèi)壁的第一部位上,用于檢測所述石墨消解儀內(nèi)的第一區(qū)域的酸霧濃度。
5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括:
第二濃度檢測儀,所述第二濃度檢測儀固定于所述石墨消解儀內(nèi)壁的第二部位上,用于檢測所述石墨消解儀內(nèi)的第二區(qū)域的酸霧濃度;
其中,所述第一部位和所述第二部位是所述石墨消解儀內(nèi)壁的不同部位,所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域是所述石墨消解儀內(nèi)部的不同區(qū)域。
6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括:
第三濃度檢測儀,所述第三濃度檢測儀固定于所述石墨消解儀內(nèi)壁的第三部位上,用于檢測所述石墨消解儀內(nèi)的第三區(qū)域的酸霧濃度;
其中,所述第一部位、所述第二部位和所述第三部位是所述石墨消解儀內(nèi)壁的不同部位,所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域是所述石墨消解儀內(nèi)部的不同區(qū)域。
7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括:
第四濃度檢測儀,所述第四濃度檢測儀固定于所述石墨消解儀內(nèi)壁的第四部位上,用于檢測所述石墨消解儀內(nèi)的第四區(qū)域的酸霧濃度;
其中,所述第一部位、所述第二部位、所述第三部位和所述第四部位是所述石墨消解儀內(nèi)壁的不同部位,所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域、所述第三區(qū)域和所述第四區(qū)域是所述石墨消解儀內(nèi)部的不同區(qū)域。
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