[發明專利]一種pH穩定性提高的碳化硅化學機械拋光液及其應用

有效

• 申請號: 201811303460.6
• 申請日: 2018-11-02
• 公開（公告）號: CN109554119B
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發明（設計）人: 竇文濤;宗艷民;梁慶瑞;王含冠;其他發明人請求不公開姓名
• 申請（專利權）人: 山東天岳先進材料科技有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/304
• 代理公司: 濟南千慧專利事務所(普通合伙企業) 37232
• 代理人: 吳紹群

1.一種pH穩定性提高的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述拋光液包括：氧化劑、高硬度磨料、高硬度磨料的表面改性劑和pH穩定劑，所述氧化劑為高錳酸鉀，所述高硬度磨料為濃度為10~30%的酸性氧化鋁分散液，所述表面改性劑為乙酸和/或丙酸，所述pH穩定劑為硝酸鋁，所述拋光液對SiC單晶的Si面的去除速度為0.5~1.5μm/hr且對SiC單晶的C面的去除速度為3.5~6μm/hr；其中，所述硝酸鋁的終濃度為0.01~5%，所述氧化劑的終濃度為0.01~10%，所述表面改性劑的用量為氧化鋁重量的0.5~2.0%；所述拋光液的pH值為3.5～4。

2.根據權利要求1所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述高硬度磨料的Zeta電勢大于+30mv。

3.根據權利要求1所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化鋁是莫氏硬度9.0的高硬度的α-氧化鋁、或過渡相氧化鋁。

4.根據權利要求3所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述過渡相氧化鋁為θ-氧化鋁、γ-氧化鋁、κ-氧化鋁、δ-氧化鋁中的一種或多種。

5.根據權利要求1所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述硝酸鋁的終濃度為0.05~1%。

6.根據權利要求1所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑的終濃度為0.1~4%。

7.根據權利要求1所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述拋光液還包括表面活性劑、緩蝕劑、消泡劑、光亮劑、粘度調節劑或聚合物分散劑。

8.根據權利要求1所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述高硬度磨料為濃度為15~25%的酸性氧化鋁分散液，所述表面改性劑的用量為氧化鋁重量的1.0~1.5%。

9.根據權利要求1所述的碳化硅化學機械拋光液，其特征在于，所述拋光液由以下方法制備得到：（1）提供酸性氧化鋁分散液；（2）采用表面改性劑對酸性氧化鋁分散液進行表面改性；（3）調節pH值為3.5~4，加入pH值穩定劑攪拌分散；（4）加入氧化劑，配制成pH穩定性提高的碳化硅化學機械拋光液。

10.權利要求1-9任一所述的pH穩定性提高的碳化硅化學機械拋光液在碳化硅拋光中的應用。