[發明專利]一種液位控制系統及方法

在審

• 申請號: 201811303068.1
• 申請日: 2018-11-02
• 公開（公告）號: CN109164840A
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發明（設計）人: 陳世雄;楊健;王振中;吳曉東;吉曉輝;殷春;武丹;李篤
• 申請（專利權）人: 西安麥特沃金液控技術有限公司
• 主分類號: G05D9/12
• 分類號: G05D9/12
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 王正楠

1.一種液位控制系統，其特征在于，包括分別與控制器電連接的液位檢測裝置和注液控制裝置，其中，

所述液位檢測裝置用于檢測結晶器的儲液容室內金屬熔體的液面高度，并將所述液面高度信息發送給所述控制器；

所述控制器根據所述液面高度信息控制所述注液控制裝置向所述儲液容室內注入金屬熔體的量。

2.根據權利要求1所述的液位控制系統，其特征在于，所述液位檢測裝置包括探針、探針運動機構、電信號導通檢測裝置以及探針位置檢測裝置，所述探針分別與所述探針運動機構、所述電信號導通檢測裝置和所述探針位置檢測裝置連接；

所述探針運動機構連續驅動所述探針運動，且所述探針位置檢測裝置連續檢測所述探針的位移并將位移值傳給控制器；當所述探針運動機構驅動所述探針與所述儲液容室內的金屬液面接觸并形成導通回路時，所述電信號導通檢測裝置將檢測到液面導通信號并將所述液面導通信號輸送給所述控制器，所述控制器根據所述探針電信號導通瞬間所對應的探針的位移信息控制所述注液控制裝置向所述儲液容室內注入金屬熔體的量。

3.根據權利要求2所述的液位控制系統，其特征在于，所述位移值包括：角位移、直線位移中至少一種。

4.根據權利要求1所述的液位控制系統，其特征在于，所述注液控制裝置包括流量調節器，用于控制增大或者減小金屬液體向儲液容室的注入量。

5.根據權利要求4所述的液位控制系統，其特征在于，所述流量調節器的控制方式包括：機電控制、電液控制、電磁控制、比例控制、伺服控制中的一種。

6.一種液位控制方法，其特征在于，該液位控制方法包括以下步驟：

采用液位檢測裝置檢測結晶器的儲液容室內金屬熔體的液面高度，并將所述液面高度信息發送給控制器；

所述控制器根據所述液面高度信息控制注液控制裝置向所述儲液容室內注入金屬熔體的量。

7.根據權利要求6所述的液位控制方法，其特征在于，所述液位檢測裝置包括探針、探針運動機構、電信號導通檢測裝置以及探針位置檢測裝置，所述探針分別與所述探針運動機構、所述電信號導通檢測裝置和所述探針位置檢測裝置連接；

所述探針運動機構連續驅動所述探針運動，且所述探針位置檢測裝置連續檢測所述探針的位移并將位移值傳給控制器；當所述探針運動機構驅動所述探針與所述儲液容室內的金屬液面接觸并形成導通回路時，所述電信號導通檢測裝置將檢測到液面導通信號并將所述液面導通信號輸送給所述控制器，所述控制器根據所述探針電信號導通瞬間所對應的探針的位移信息控制所述注液控制裝置向所述儲液容室內注入金屬熔體的量。

8.根據權利要求7所述的液位控制方法，其特征在于，所述位移值包括：角位移、直線位移中至少一種。

9.根據權利要求6所述的液位控制方法，其特征在于，所述注液控制裝置包括流量調節器，用于控制增大或者減小金屬液體向儲液容室的注入量。

10.根據權利要求9所述的液位控制方法，其特征在于，所述流量調節器的控制方式包括：機電控制、電液控制、電磁控制、比例控制、伺服控制中的一種。