[發明專利]一種深截止窄帶濾光片的高精度測試方法有效
| 申請號： | 201811301039.1 | 申請日： | 2018-11-02 |
| 公開（公告）號： | CN109269778B | 公開（公告）日： | 2020-04-28 |
| 發明（設計）人： | 劉華松;姜玉剛;何家歡;劉丹丹;季一勤 | 申請（專利權）人： | 天津津航技術物理研究所 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02;G01M11/00 |
| 代理公司： | 中國兵器工業集團公司專利中心 11011 | 代理人： | 周恒 |
| 地址： | 300308 天津*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 截止 窄帶 濾光 高精度 測試 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種深截止窄帶濾光片的高精度測試方法，其特征在于，所述方法將深截止窄帶濾光片的樣品沉積在石英基底上，使用分光光度計進行測試，所述方法包括如下步驟：
步驟1：首先選擇分光光度計的測試參數m-1個，分別記為變量x1、x2、……xm-1；
步驟2：在每個變量下選擇不同的參數，共n個參數，則定義測試參數變量的矩陣X如下：
步驟3：深截止窄帶濾光片的性能指標Yi考核中心波長、峰值透過率、帶寬和截止帶深度，在此定義分別用Y1、Y2、Y3和Y4表示；
步驟4：上述的關系表征如下，基于數學的多元線性回歸的方法，矩陣β是需要多元回歸的矩陣：
步驟5：采用實驗設計的方法，確定測試實驗的相關參數，分別對設計的參數進行實驗測試；
步驟6：對上述多元線性回歸進行方差分析，檢驗測試結果Yi與測試參數X之間是否存在顯著的線性關系，通過檢驗假設的方法構建檢驗統計量，在給定的顯著性水平α下，確定線性回歸關系的顯著性；
步驟7：進一步進行偏回歸系數的檢驗，提出對y值影響不顯著的參數x，最終確定Yi和X的多元線性回歸方程；對于深截止窄帶濾光片的測試而言，參數b0就是Yi的估計值，其余參數則是影響測試結果的誤差；
所述步驟1中，測試參數包括：積分時間、光強衰減比例、光闌孔徑和狹縫寬度。
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