[發(fā)明專利]X線影像設(shè)備的曝光劑量調(diào)節(jié)方法及X線影像設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811299577.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111134698A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 仇德元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海西門子醫(yī)療器械有限公司 |
| 主分類號(hào): | A61B6/00 | 分類號(hào): | A61B6/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 201318 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 影像 設(shè)備 曝光 劑量 調(diào)節(jié) 方法 | ||
1.X線影像設(shè)備的曝光劑量調(diào)節(jié)方法,其中,X線照射一對(duì)象,并且至少由第一曝光參數(shù)和第二曝光參數(shù)確定X線的劑量,其特征在于,所述方法包括:
確定所述對(duì)象的實(shí)際厚度;
根據(jù)所述實(shí)際厚度相比于標(biāo)準(zhǔn)厚度的厚度變化,確定用于所述實(shí)際厚度的X線劑量相比于用于所述標(biāo)準(zhǔn)厚度的X線劑量的劑量變化;
根據(jù)所述厚度變化,調(diào)整所述第一曝光參數(shù)并由此確定所述劑量變化的第一分量;以及
基于所述第一分量,確定所述劑量變化的第二分量,并根據(jù)所述第二分量調(diào)整所述第二曝光參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,調(diào)整所述第一曝光參數(shù)并由此確定所述劑量變化的第一分量包括:
獲取預(yù)定的與所述標(biāo)準(zhǔn)厚度對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)第一曝光參數(shù);
根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)第一曝光參數(shù)和所述厚度變化,確定與所述實(shí)際厚度對(duì)應(yīng)的實(shí)際第一曝光參數(shù);以及
根據(jù)所述實(shí)際第一曝光參數(shù)相比于所述標(biāo)準(zhǔn)第一曝光參數(shù)的變化,確定所述第一分量。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,確定與所述實(shí)際厚度對(duì)應(yīng)的實(shí)際第一曝光參數(shù)包括:
根據(jù)所述厚度變化映射至所述第一曝光參數(shù)形成的曝光特征曲線,確定所述實(shí)際第一曝光參數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,確定用于所述實(shí)際厚度的X線劑量相比于用于所述標(biāo)準(zhǔn)厚度的X線劑量的劑量變化包括:
確定在所述標(biāo)準(zhǔn)第一曝光參數(shù)下,所述對(duì)象的組織衰減系數(shù);
根據(jù)所述對(duì)象的組織比率和所確定的組織衰減系數(shù),計(jì)算所述對(duì)象的有效衰減系數(shù);以及
基于所述有效衰減系數(shù)和所述厚度變化,計(jì)算所述劑量變化。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,確定所述對(duì)象的實(shí)際厚度包括:
獲取所述實(shí)際厚度的輸入或者使用測(cè)距傳感器確定所述實(shí)際厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,調(diào)整所述第一曝光參數(shù)并由此確定所述劑量變化的第一分量包括:
根據(jù)X線劑量隨所述第一曝光參數(shù)變化的經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù),確定所述第一分量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述第一分量,確定所述劑量變化的第二分量,根據(jù)所述第二分量調(diào)整所述第二曝光參數(shù)包括:
從所述劑量變化中去除所述第一分量,得到所述劑量變化的第二分量;
獲取預(yù)定的與所述標(biāo)準(zhǔn)厚度對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)第二曝光參數(shù);以及
根據(jù)X線劑量隨所述第二曝光參數(shù)變化的經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù),調(diào)整所述第二曝光參數(shù)。
8.X線影像設(shè)備,其中,X線照射一對(duì)象,并且至少由第一曝光參數(shù)和第二曝光參數(shù)確定X線的劑量,其特征在于,所述X線影像設(shè)備包括:
厚度確定模塊,用于確定所述對(duì)象的實(shí)際厚度;
劑量變化確定模塊,用于根據(jù)所述實(shí)際厚度相比于標(biāo)準(zhǔn)厚度的厚度變化,確定用于所述實(shí)際厚度的X線劑量相比于用于所述標(biāo)準(zhǔn)厚度的X線劑量的劑量變化;
第一曝光參數(shù)調(diào)整模塊,用于根據(jù)所述厚度變化,調(diào)整所述第一曝光參數(shù)并由此確定所述劑量變化的第一分量;以及
第二曝光參數(shù)調(diào)整模塊,用于基于所述第一分量,確定所述劑量變化的第二分量,并根據(jù)所述第二分量調(diào)整所述第二曝光參數(shù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X線影像設(shè)備,其特征在于,所述第一曝光參數(shù)調(diào)整模塊還用于:
獲取預(yù)定的與所述標(biāo)準(zhǔn)厚度對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)第一曝光參數(shù);
根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)第一曝光參數(shù)和所述厚度變化,確定與所述實(shí)際厚度對(duì)應(yīng)的實(shí)際第一曝光參數(shù);以及
根據(jù)所述實(shí)際第一曝光參數(shù)相比于所述標(biāo)準(zhǔn)第一曝光參數(shù)的變化,確定所述第一分量。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的X線影像設(shè)備,其特征在于,所述第一曝光參數(shù)調(diào)整模塊還用于:
根據(jù)所述厚度變化映射至所述第一曝光參數(shù)形成的曝光特征曲線,確定所述實(shí)際第一曝光參數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海西門子醫(yī)療器械有限公司,未經(jīng)上海西門子醫(yī)療器械有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811299577.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:光源模塊
- 下一篇:鎖舌供電系統(tǒng)
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





