[發(fā)明專利]一種等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811299284.3
• 申請(qǐng)日: 2018-11-02
• 公開（公告）號(hào): CN111146063B
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許開東;胡冬冬;李娜;琚里;邱勇;侯永剛;車東晨;陳璐
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇魯汶儀器有限公司
• 主分類號(hào): H01J37/32
• 分類號(hào): H01J37/32
• 代理公司: 北京得信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11511
• 代理人: 孟海娟;阿蘇娜

1.一種等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，包括設(shè)置在等離子反應(yīng)腔頂部的中心進(jìn)氣孔和設(shè)置在等離子體反應(yīng)腔邊緣的邊緣進(jìn)氣孔，其特征在于，

還包括：

勻氣內(nèi)環(huán)，其表面開設(shè)有導(dǎo)氣孔，所述勻氣內(nèi)環(huán)通過滑軌設(shè)置在所述等離子體反應(yīng)腔內(nèi)，所述導(dǎo)氣孔與所述勻氣內(nèi)環(huán)的徑向呈一定夾角，以使得當(dāng)通過所述中心進(jìn)氣孔和所述邊緣進(jìn)氣孔通入氣體時(shí)，所述勻氣內(nèi)環(huán)繞軸向轉(zhuǎn)動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述導(dǎo)氣孔與所述勻氣內(nèi)環(huán)的徑向所呈夾角為1°～89°。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述導(dǎo)氣孔直徑為0.1mm～10mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述滑軌包括上下兩部分，所述滑軌的上下兩部分分別設(shè)有開口，所述滑軌的上部以開口向下的方式設(shè)置在所述等離子體反應(yīng)腔內(nèi)腔壁的上部，所述滑軌的下部以開口向上的方式設(shè)置在所述等離子體反應(yīng)腔內(nèi)腔壁的下部，所述勻氣內(nèi)環(huán)安裝在所述滑軌上部和滑軌下部之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述開口呈V型、U型或O型，當(dāng)開口呈V型時(shí)，開口的角度為20°～80°，當(dāng)開口為U型時(shí)，寬和高范圍為0.1mm～20mm，當(dāng)開口為O型時(shí)，開口的直徑范圍為0.1mm～20mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述勻氣內(nèi)環(huán)材料采用氧化陶瓷、石英、玻璃、耐等離子腐蝕的金屬或耐等離子腐蝕的有機(jī)聚合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述勻氣內(nèi)環(huán)的壁厚為0.1mm～10mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述邊緣進(jìn)氣孔的尺寸在0.1mm～4mm×0.1～4mm之間。

9.根據(jù)權(quán)利 要求1所示的等離子反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述勻氣內(nèi)環(huán)的數(shù)量為1個(gè)或多個(gè)，多個(gè)同軸勻氣內(nèi)環(huán)以不同直徑沿所述等離子體反應(yīng)腔的徑向分布，或者沿所述等離子體反應(yīng)腔的軸向的不同高度區(qū)域分布。

10.根據(jù)權(quán)利 要求1所述的等離子體反應(yīng)腔進(jìn)氣系統(tǒng)，其特征在于，

所述中心進(jìn)氣孔以一定速率做圓周運(yùn)動(dòng)，以使得氣流高度對(duì)稱分布，所述速率在1轉(zhuǎn)/秒～10000轉(zhuǎn)/秒之間。