[發(fā)明專利]碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811298950.1
• 申請日: 2018-11-01
• 公開（公告）號: CN111115615B
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王廣;魏洋;范守善
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司
• 主分類號: C01B32/168
• 分類號: C01B32/168
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，包括以下步驟：

提供一碳納米管陣列、第一基底以及一第二基底，該碳納米管陣列位于第一基底的表面，所述碳納米管陣列包括多個碳納米管垂直于第一基底的表面，該第二基底的表面具有一粘結(jié)層；

施加一壓力于碳納米管陣列的表面，該壓力不會破壞所述碳納米管陣列中的碳納米管，且能夠使所述碳納米管陣列中的碳納米管傾倒于第一基底的表面形成一碳納米管紙，該碳納米管紙中的碳納米管與第一基底的表面平行；

將所述第二基底放置在所述碳納米管紙的表面，并使所述粘結(jié)層位于該第二基底和該碳納米管紙之間，使第一基底、碳納米管紙和第二基底層疊設(shè)置形成一三層結(jié)構(gòu)；以及

剝離該第二基底，使所述碳納米管紙中的碳納米管與所述第一基底分離粘結(jié)在所述第二基底的粘結(jié)層上，碳納米管紙中的碳納米管在第一基底和第二基底的作用力下豎直排列形成所述碳納米管陣列，進而將所述碳納米管陣列轉(zhuǎn)移到所述第二基底上，碳納米管陣列中的碳納米管基本垂直于第二基底的表面。

2.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，所述碳納米管陣列通過一粘結(jié)劑固定在第一基底上。

3.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，所述碳納米管陣列為超順排碳納米管陣列，該超順排碳納米管陣列包括多個彼此平行且垂直于第一基底的碳納米管。

4.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，所述第二基底和所述粘結(jié)層形成一膠帶，所述膠帶為雙向拉伸聚丙烯膠帶、布基膠帶、牛皮紙膠帶、美紋紙膠帶、纖維膠帶、聚氯乙烯膠帶、或聚乙烯膠帶。

5.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，采用一板材朝一個方向?qū)μ技{米管陣列的表面施加壓力。

6.如權(quán)利要求5所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，施加壓力的方向與所述碳納米管陣列的表面的交叉角度大于30°小于等于60°。

7.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，所述第二基底的剝離方向垂直于該第一基底的表面，使在剝離所述第二基底的過程中，所述碳納米管紙中的所有碳納米管同時脫離所述第一基底。

8.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，在對所述碳納米管陣列施加壓力之前，對所述碳納米管陣列進行退火處理。

9.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，其特征在于，在碳納米管陣列轉(zhuǎn)移至所述第二基底上之后，進一步對所述碳納米管陣列的表面進行等離子體處理。

10.一種碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法，包括以下步驟：

提供一第一基底、一第二基底、一碳納米管陣列、以及一膠帶，該碳納米管陣列生長在第一基底的表面，所述碳納米管陣列包括多個碳納米管垂直于第一基底的表面，該第二基底的表面具有一粘結(jié)層；

對碳納米管陣列的表面施加壓力，該壓力不會破壞所述碳納米管陣列中的碳納米管，且能夠使所述碳納米管陣列中的碳納米管傾倒于第一基底的表面形成一碳納米管紙，該碳納米管紙中的碳納米管與第一基底的表面平行；

將所述膠帶放置在所述碳納米管紙上，且所述膠帶的粘結(jié)面與該碳納米管紙遠(yuǎn)離所述第一基底的表面接觸；

剝離所述膠帶，使所述碳納米管紙與第一基底分離并粘結(jié)在所述膠帶的表面；

將所述第二基底放置在所述碳納米管紙的表面，并使所述粘結(jié)層位于該第二基底和該碳納米管紙之間，使膠帶、碳納米管紙、粘結(jié)層和第二基底層疊設(shè)置形成一多層結(jié)構(gòu)；以及

剝離該第二基底，使所述碳納米管紙中的碳納米管與所述膠帶分離并粘結(jié)在所述第二基底的粘結(jié)層上，碳納米管紙中的碳納米管在第二基底和膠帶的作用力下豎直排列形成所述碳納米管陣列，進而將所述碳納米管陣列轉(zhuǎn)移到所述第二基底上，碳納米管陣列中的碳納米管基本垂直于第二基底的表面。