[發(fā)明專利]集成慣性與確定性側(cè)向位移技術(shù)的稀有細(xì)胞多級(jí)分選微流控器件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811298537.5
• 申請(qǐng)日: 2018-11-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109456875B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 易紅;倪中華;項(xiàng)楠;黃笛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東南大學(xué)
• 主分類號(hào): C12M1/00
• 分類號(hào): C12M1/00
• 代理公司: 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 唐紅

1.一種集成慣性與確定性側(cè)向位移技術(shù)的稀有細(xì)胞多級(jí)分選微流控器件，其特征在于：包括集成器件，所述集成器件上一端設(shè)有樣品入口，在集成器件內(nèi)，樣品入口的下方連通于螺旋流道，螺旋流道的另一端連通有突擴(kuò)結(jié)構(gòu)，突擴(kuò)結(jié)構(gòu)的另一端分裂為兩個(gè)支路，一個(gè)為第一分支流道，另一個(gè)為確定性側(cè)向位移流道；所述第一分支流道與確定性側(cè)向位移流道相并聯(lián)，第一分支流道的末端設(shè)有血細(xì)胞出口；所述確定性側(cè)向位移流道的另一端分裂為相并聯(lián)的第二分支流道和第三分支流道，第二分支流道的末端設(shè)有殘余血細(xì)胞出口，第三分支流道的末端設(shè)有稀有細(xì)胞出口，其中，所述細(xì)胞直徑和螺旋流道的截面高度間滿足0.07ap/h0.3，ap為細(xì)胞直徑，h為螺旋流道截面高度；螺旋流道的垂直截面為低深寬比矩形，深寬比為1/2～1/8，所述確定性側(cè)向位移流道內(nèi)排布有微柱陣列，微柱陣列中的各個(gè)微柱之間保持一定間距均勻分布，微柱陣列與水平方向呈一定傾角排布，大于臨界尺寸的粒子將沿傾斜排布方向遷移，而小于臨界尺寸的粒子將隨主流動(dòng)運(yùn)動(dòng)，整體上沿水平方向遷移，臨界尺寸為10-15μm，所述微柱的橫截面為圓形、三角形和“I”形中的任意一種，所述突擴(kuò)結(jié)構(gòu)末端處，第一分支流道最前端與確定性側(cè)向位移流道的寬度比為1:2，且第一分支流道上從與突擴(kuò)結(jié)構(gòu)的連接處至血細(xì)胞出口處之間逐漸收聚，所述突擴(kuò)結(jié)構(gòu)上靠近螺旋流道的一端兩側(cè)的流道壁先互成60°夾角，然后經(jīng)平直延伸以120°夾角擴(kuò)張至所需寬度，并隨后分裂出第一分支流道與確定性側(cè)向位移流道。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成慣性與確定性側(cè)向位移技術(shù)的稀有細(xì)胞多級(jí)分選微流控器件，其特征在于：所述第一分支流道與確定性側(cè)向位移流道并聯(lián)后作為一個(gè)整體串聯(lián)于突擴(kuò)結(jié)構(gòu)之后；所述第二分支流道與第三分支流道并聯(lián)后作為一個(gè)整體串接于確定性側(cè)向位移流道之后。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成慣性與確定性側(cè)向位移技術(shù)的稀有細(xì)胞多級(jí)分選微流控器件，其特征在于：所述集成器件的制作材質(zhì)為聚二甲基硅氧烷、環(huán)氧樹(shù)脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、玻璃、硅和石英中的一種。