[發(fā)明專利]一種反射式非球面光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811295487.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109613697B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉巖;熊琨;王春喜;趙天承;汪濤;劉凱;姜云翔;高秋娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航天計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究所;中國(guó)運(yùn)載火箭技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | G02B27/00 | 分類號(hào): | G02B27/00;G02B17/06 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 張雅丁 |
| 地址: | 100076 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 反射 球面 光學(xué)系統(tǒng) 設(shè)計(jì) 方法 | ||
1.一種反射式非球面光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法,其特征在于:包括以下步驟:
①設(shè)計(jì)全球面初始結(jié)構(gòu)
反射式非球面光學(xué)系統(tǒng)包含4面反射鏡,運(yùn)用一階近軸幾何光學(xué)成像理論,設(shè)計(jì)全球面初始結(jié)構(gòu);
②確定4面反射鏡的反射球面光焦度排序?yàn)椋?/p>
ΦM2>ΦM3>ΦM1>ΦM4 (1)
首先在光焦度最大的M2反射鏡的反射面上引入非球面進(jìn)行求解;
被求解面M2反射鏡的反射面視為未知,其余的M1、M3、M4反射鏡的反射面各面視為已知;
③確定M2反射鏡的反射面的入射光線方程
連接物面中任意選取的某一物點(diǎn)A與光瞳內(nèi)子午面的取樣點(diǎn),確定n條用于追跡求解的光線;
第i條光線從物點(diǎn)A發(fā)出后,1≤i≤n,通過(guò)實(shí)際光線追跡,求得其在已知面上的投射點(diǎn)坐標(biāo)及入射角,進(jìn)而求出已知面的入射光線方程;
④確定M2反射鏡的反射面的出射光線方程
對(duì)于理想成像,物點(diǎn)A的坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的理想像點(diǎn)A′坐標(biāo)根據(jù)系統(tǒng)放大倍率計(jì)算確定;
子午面內(nèi)理想出射光線根據(jù)子午面內(nèi)共軛出射光線唯一確定;
⑤確定M2反射鏡的反射面的目標(biāo)非球面點(diǎn)坐標(biāo)
將(2)式和(3)式聯(lián)求解定兩光線交點(diǎn),兩光線交點(diǎn)為M2反射鏡的反射面的目標(biāo)非球面點(diǎn),求得其坐標(biāo)(zi′,yi′);
⑥確定M2反射鏡的反射面的目標(biāo)非球面與子午面交線方程
根據(jù)步驟③~⑤依照上述方法,求得所有M2反射鏡的反射面的取樣光線在子午面內(nèi)與M2反射鏡的反射面的目標(biāo)非球面的交點(diǎn)坐標(biāo),設(shè)定M2反射鏡的反射面的目標(biāo)非球面與子午面交線方程;
⑦確定M2反射鏡的反射面的目標(biāo)非球面方程
⑧利用最小二乘法原理求解
⑨將非球面與子午面交線繞z軸旋轉(zhuǎn),獲得目標(biāo)非球面方程;
⑩求解出作為未知面的M2反射鏡的反射面后,M2反射鏡的反射面變?yōu)橐阎妫怨饨苟扔纱蟮叫〉捻樞蛑鹨磺蠼庀乱晃粗妫敝两獬鏊蟹瓷浞乔蛎妫?/p>
n>待解非球面系數(shù)個(gè)數(shù),n的上限則根據(jù)運(yùn)算速度確定;
步驟③中,在子午面內(nèi),M2反射鏡的反射面的入射光線為其前一已知面的出射光線,以M2反射鏡的球面頂點(diǎn)為原點(diǎn),光軸為z軸,y軸垂直于z軸,設(shè)M2反射鏡對(duì)應(yīng)的入射光線li方程為:
li:y=ki·z+bi (2)
其中ki為入射光線與光軸的夾角正切值,bi為入射光線在y軸的截距;
在光學(xué)軟件中通過(guò)實(shí)際光線追跡獲得ki、bi值;
步驟④中,將該共軛出射光線作為入射光線,從理想像點(diǎn)A′逆光路追跡,即入射光線由A′發(fā)出,依次經(jīng)過(guò)M4、M3、M2、M1,則M3的出射光線即為M2的入射光線,M3的出射光線即為M2的入射光線也是正向追跡時(shí)M2的出射光線,令該光線li′表示為:
li′:y=ki′·z+bi′ (3)
ki′為逆向追跡光線時(shí),M3出射光線與光軸的夾角正切值,bi′為該出射光線在y軸的截距;
在光學(xué)軟件中通過(guò)實(shí)際光線追跡獲得ki′、bi′值。
2.如權(quán)利要求1所述的一種反射式非球面光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法,其特征在于:步驟⑤中,坐標(biāo)(zi′,yi′)表示為:
3.如權(quán)利要求2所述的一種反射式非球面光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法,其特征在于:步驟⑥中,M2反射鏡的反射面的目標(biāo)非球面與子午面交線方程為:
其中,αj為非球面系數(shù)。
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