[發(fā)明專利]掩模板框架、掩模板及其制作方法、張網(wǎng)機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811291504.8
• 申請日: 2018-10-31
• 公開（公告）號: CN109188856B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 洪忠慶
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;綿陽京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/64
• 分類號: G03F1/64;C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 張雨竹

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種掩模板框架、掩模板及其制作方法、張網(wǎng)機(jī)，涉及掩模板技術(shù)領(lǐng)域，可以使得對位測量更精準(zhǔn)。一種掩模板框架，包括中空的框架主體，所述框架主體上設(shè)置有多個第一對位標(biāo)記和多個第二對位標(biāo)記；所述第一對位標(biāo)記與所述第二對位標(biāo)記一一對應(yīng)，且所述第一對位標(biāo)記與所述第二對位標(biāo)記無交疊；所述第一對位標(biāo)記設(shè)置于所述框架主體的一側(cè)；所述第二對位標(biāo)記為貫穿所述框架主體的通孔。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及掩模板技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩模板框架、掩模板及其制作方法、張網(wǎng)機(jī)。

背景技術(shù)

目前，掩模板被廣泛應(yīng)用于各領(lǐng)域中進(jìn)行圖案制作。

掩模條制作完成后，需要在張網(wǎng)機(jī)上將掩模條與掩模板框架貼合在一起，制作形成掩模板。

掩模條在制作時有一定的張力，與掩模板框架貼合后發(fā)生向內(nèi)的回縮變形。當(dāng)掩模條與金屬框架貼合時，每貼一條掩模條，掩模板框架都會產(chǎn)生一定形變，因此每次貼合都需要進(jìn)行對位，對位不準(zhǔn)確將會影響張網(wǎng)精度，從而影響制得的掩模板的品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種掩模板框架、掩模板及其制作方法、張網(wǎng)機(jī)，可以使得對位測量更精準(zhǔn)。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

一方面，提供一種掩模板框架，包括中空的框架主體，所述框架主體上設(shè)置有多個第一對位標(biāo)記和多個第二對位標(biāo)記；所述第一對位標(biāo)記與所述第二對位標(biāo)記一一對應(yīng)，且所述第一對位標(biāo)記與所述第二對位標(biāo)記無交疊；所述第一對位標(biāo)記設(shè)置于所述框架主體的一側(cè)；所述第二對位標(biāo)記為貫穿所述框架主體的通孔。

可選的，所述框架主體包括中部具有開口區(qū)域的邊框以及跨設(shè)于所述開口區(qū)域的承載條；所述第二對位標(biāo)記設(shè)置于所述承載條上，且位于所述開口區(qū)域。

進(jìn)一步可選的，所述第一對位標(biāo)記位于所述邊框與所述承載條的重疊區(qū)域，且所述第一對位標(biāo)記為貫穿所述承載條的通孔。

可選的，所述第一對位標(biāo)記位于所述邊框與所述承載條的非重疊區(qū)域；所述第一對位標(biāo)記設(shè)置于所述邊框與所述承載條同側(cè)的表面上。

可選的，所述承載條為至少兩根；兩根所述承載條分別設(shè)置于所述邊框的相對兩側(cè)。

可選的，所述第一對位標(biāo)記為四個，四個所述第一對位標(biāo)記分別設(shè)置于所述邊框的四個角處；所述第二對位標(biāo)記分別靠近與其對應(yīng)的所述第一對位標(biāo)記設(shè)置。

再一方面，提供一種掩模板，包括上述的掩模板框架、掩模條。

另一方面，提供一種張網(wǎng)機(jī)，包括承載臺、底部傳感器、頂部傳感器和處理器；所述承載臺用于承載權(quán)利要求上述的掩模板框架；所述底部傳感器設(shè)置于所述承載臺的下方，所述底部傳感器用于測量所述掩模板框架上的第二對位標(biāo)記的坐標(biāo)；所述頂部傳感器設(shè)置于所述承載臺的上方，所述頂部傳感器用于測量所述掩模板框架上一一對應(yīng)的第一對位標(biāo)記和所述第二對位標(biāo)記之間的距離；所述處理器用于根據(jù)所述第二對位標(biāo)記的坐標(biāo)，以及一一對應(yīng)的第一對位標(biāo)記和所述第二對位標(biāo)記之間的距離，計(jì)算所述第一對位標(biāo)記的坐標(biāo)。

可選的，所述頂部傳感器和所述底部傳感器均為CCD。

又一方面，提供一種掩模板的制作方法，包括：根據(jù)上述的掩模板框架，通過張網(wǎng)機(jī)的底部傳感器測量第二對位標(biāo)記的坐標(biāo)，并通過張網(wǎng)機(jī)的頂部傳感器測量一一對應(yīng)的第一對位標(biāo)記和所述第二對位標(biāo)記之間的距離；根據(jù)所述第二對位標(biāo)記的坐標(biāo)，以及一一對應(yīng)的第一對位標(biāo)記和所述第二對位標(biāo)記之間的距離，計(jì)算所述第一對位標(biāo)記的坐標(biāo)；根據(jù)所述第一對位標(biāo)記的坐標(biāo)，將掩模條固定于所述掩模板框架上。