[發明專利]顯示面板、復合屏、顯示終端和復合屏的制備方法

在審

• 申請號: 201811290667.4
• 申請日: 2018-10-31
• 公開（公告）號: CN110767827A
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 范俊;謝峰
• 申請（專利權）人: 云谷(固安)科技有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 44224 廣州華進聯合專利商標代理有限公司
• 代理人: 唐清凱

1.一種顯示面板，其特征在于，該顯示面板包括：

陰極；

陰極隔離柱，其用于將相鄰的兩個所述陰極隔離開；

在所述顯示面板的縱截面圖中，所述陰極隔離柱的側壁具有非平坦部，所述非平坦部位于所述陰極的上方。

2.如權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述非平坦部的數量為至少一個。

3.如權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述非平坦部為凹陷或凸起。

4.如權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，當所述非平坦部為所述凹陷時，所述凹陷的深度為1.5μm～2.5μm，所述凹陷的開口尺寸為

5.如權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陰極隔離柱為復合膜層結構；

優選的，所述顯示面板為PMOLED顯示面板；

優選的，所述復合膜層結構包括依次層疊的刻蝕阻擋層、無機層和有機膠層；其中，所述無機層與所述刻蝕阻擋層之間的選擇刻蝕比大于1；

優選的，所述刻蝕阻擋層的厚度為

優選的，所述復合膜層結構包括依次層疊的第一氮化硅層、氧化硅層、第二氮化硅層和光敏聚酰亞胺層；

優選的，所述復合膜層結構包括依次層疊的第一膜層和第二膜層；其中，所述第二膜層覆蓋并凸出于所述第一膜層的上表面，以使得所述第一膜層的側面和所述第二膜層的側面交錯形成所述階梯狀結構；

優選的，所述第一膜層和所述第二膜層的材質均為負性光刻膠。

6.一種復合屏，其特征在于，包括一體化的主屏體和副屏體，所述副屏體為PM屏體或類AM屏體，所述主屏體為AM屏體；

其中，所述副屏體為PM屏體時，該副屏體包括如權利要求1～5中任意一項所述的顯示面板；

優選的，所述類AM屏的像素電路僅包含一個開關元件。

7.一種顯示終端，其特征在于，包括：

設備本體，具有器件區；

如權利要求6所述的復合屏，覆蓋在所述設備本體上；

其中，所述器件區位于所述副屏體的下方，且所述器件區中設置有透過所述副屏體進行光線采集的感光器件。

8.如權利要求7所述的顯示終端，其特征在于，所述器件區為開槽區；以及

所述感光器件包括攝像頭和/或光線感應器。

9.一種復合屏的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一半導體襯底，所述半導體襯底具有AM顯示區和PM顯示區；

于所述AM顯示區中制備AM陽極層，于所述PM顯示區中制備像素定義層；其中，在所述像素定義層具有像素開口，在所述像素開口制備有PM發光層；

制備依次疊置的刻蝕阻擋薄膜、無機薄膜和有機膠薄膜，所述刻蝕阻擋薄膜覆蓋所述AM陽極層的上表面、所述像素定義層的上表面和所述PM發光層的上表面；

圖形化所述有機膠薄膜形成有機膠層；

以所述有機膠層為掩膜，濕法刻蝕所述無機薄膜形成無機層；

刻蝕去除部分所述刻蝕阻擋薄膜，形成刻蝕阻擋層；以及

繼續制備陰極層；

其中，在遠離所述像素定義層的上表面方向上，依次疊置的所述刻蝕阻擋層、所述無機層和所述有機膠層形成倒梯形的陰極隔離柱；以及

所述陰極隔離柱的側面形成有非平坦部，所述非平坦部用于將位于相鄰所述發光層之上的陰極層隔斷為相互隔離的陰極；

優選的，所述非平坦部為凹槽。

10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，濕法刻蝕所述無機薄膜形成無機層時，所述刻蝕阻擋層與所述無機薄膜之間的刻蝕選擇比大于1。